基于有限元法的柱塞泵曲轴应力分析

基于有限元分析方法,将曲轴划分为89个形状规则的组成部分,创建了72个用于施加连杆力载荷的工作坐标。在设计工况(柱塞推力6500kg)下,对曲轴按照每隔15°一个角度工况,共24个不同角度上的工作载荷情况进行静力有限元分析,共得到24种工况的应力场及应力强度。对曲轴最大应力值随旋转角的变化进行了详细的分析。     

AISI1008圆钢混晶原因分析及有限元模拟和工艺改进

在棒材线轧制锻造爪机用AISI1008钢时,出现混晶现象,Φ50 mm棒材边缘铁素体晶粒度3级,1/2半径及心部铁素体晶粒度8级,通过对钢材进行金相组织及电镜检验,对轧制过程温度及等效应变利用Deform软件进行有限元模拟,发现造成圆钢边缘晶粒粗大的原因与终轧温度过低及轧制等效应变大且分布不均有关,将终轧温度由原820℃提高至880℃,成功改善了圆钢横截面混晶现象。     

激光二极管端面抽运Nd:YVO4板条1342 nm激光器

1.3μm全固态激光器在激光雷达、光纤通信、激光医疗等军事和民用领域有着广泛的应用,同时其经过频率变换所获得的红蓝光也是激光彩色显示中的重要光源,因此对1.3μm激光器的研究具有很大的现实意义.但是,相对于1.06μm的情况,激光增益介质在1.3μm的热效应更明显,激光器的效率、输出功率也较低.2003年,A.Minassian等利用掠入射Nd:YVO4板条激光器结构获得了10 w基模1342 nm激光输出,并通过振荡放大系统将输出功率提高到20 w;2005年,中国科学院物理研究所Yao等利用激光二极管(LD)抽运棒状Nd:YVO4获得11 w的激光输出;2008年,清华大学Lu等采用双端面抽运两块棒状Nd:YVO4晶体,获得16.4 w的1342 nm激光输出.     

电子致放气测试装置的研究

材料表面吸附的气体分子在电子轰击作用下,会加速释放到真空系统中。为了测试在电子轰击下的材料放气特性,研制了一套电子致放气的测试装置。电子束发生器作为重要的组成部件,具有许多可调参数,这些参数会在一定程度上影响输出的电子束质量,进而影响电子致放气测试结果。文章首先通过实验测量了电子束斑和束流的影响因素,结果表明,聚焦电压和栅极电压对束斑的尺寸有直接的影响,而能量电压对电子束斑直径没有影响。此外,阴极电压、电子能量和栅极电压都可影响到发射电流,从而影响出射的电子束电流。为了验证装置的电子致放气测试能力,采用放气率很低的316 L不锈钢作为测试样品,比较测试其经过三次电子束轰击前后的放气特性。结果表明,经过除气的316 L不锈钢的电子致放气率可较明显地测定,且电子束轰击下放气的主要成分由N₂/CO变为H₂。     

自动回流阀组的运行与节能特性分析

以宝钢N2炼钢煤气冷却高压供水控制系统技术改造等工程为例,对用于高压供水循环控制系统的自动回流阀组动态特性进行了试验分析,通过多项企业节能技术改造实践和多年现场运行使用证明,它能够将流量感应、止回、旁路控制及多级降压等控制功能集于一体,有效保护水泵正常和经济运行,操作简便可靠,使高压供水自动循环控制达到国际先进水平,具有良好社会经济效益及应用推广前景.     

基于有限元法的柱塞泵曲轴疲劳强度分析

该文基于有限元分析方法,将曲轴划分为89个形状规则的组成部分,创建了72个用于施加连杆力载荷的工作坐标。在设计工况(柱塞推力6500kg)下,对曲轴按照每隔15°一个角度工况,共24个不同角度上的工作载荷情况进行静力有限元分析,共得到24种工况的应力场及应力强度。对曲柄销与曲柄过渡的圆角面进行了详细的疲劳强度分析,并对安全系数最小节点的应力值变化规律进行了描述。     

光刻用准分子激光器能量稳定性影响因素分析

以Cymer公司为例归纳总结了ArF准分子激光器双腔放大结构及相应的脉冲能量稳定性的发展历程,讨论了双腔能量放大机制对脉冲能量稳定性的影响,重点分析了MOPRA结构较MOPA结构在能量稳定性方面的优缺点.着重阐述了放电腔内工作气体成分、配比、电极间流速对脉冲能量稳定性的影响以及相应的改善措施,并结合影响脉冲能量稳定性的因素简述能量控制系统在稳定脉冲能量上的应用.     

基于傅里叶合成技术的光刻照明系统研究

离轴照明技术是光刻工艺中提高成像分辨率的关键技术之一。本文提出了一种基于傅里叶合成技术的照明系统，该系统能够实现任意照明模式，并可以提高成像数值孔径，同时具有灵活高效、能量利用率高、易于实现等优点。本课题组通过计算仿真和搭建的实验装置验证了傅里叶合成技术实现任意照明模式的可行性，掌握了傅里叶照明系统所需的数值孔径合成方法，实现照明所需的发散度。基于优化的照明程序版图在实验中实现了圆盘、二级、四极、环形等照明模式，这些照明模式光强分布较均匀且照明形状无畸变。当MEMS二维振镜的扫描角度为±1°且选用收集镜成像倍率为10时，在收集镜上可以实现最大扫描照明尺寸超过30 mm，焦点面上的4×NA值超过0.6，这一结果可以匹配当前及下一代光刻工艺及掩模检测应用的照明需求。