三势垒共振隧穿结构中极大增强的光生空穴共振隧穿

研究了电子隧穿出射端嵌入1.2 μm厚n型弱掺杂GaAs层的三势垒双阱隧穿结构,观察到了隧穿峰谷比高达36的光生空穴共振隧穿峰.研究证实1.2 μm厚n型弱掺杂GaAs层在光照下产生的大量光生空穴以及空穴隧穿出射端的23 nm宽的量子阱中量子化的空穴能级对空穴隧穿谷电流的限制作用,是导致高峰谷比的光生空穴隧穿现象的主要原因.     

磁各向异性对(In,Ga)As衬底(Ga,Mn)As的影响

在(In,Ga)As缓冲层中生长的Ga<,0.95>Mn<,0.05>As薄膜的磁光圆二向色性(MCD)扫描磁场的测量中发现异常现象,这一现象出现在外磁场把样品的磁化矢量扭转到与入射光方向一致或远离入射光方向之时.通过磁各向异性的平均场理论,我们认为这实际上是磁各向异性对带-带跃迁影响的表现,是由于空穴带劈裂和E-k色...