大面积拼接光栅的误差理论研究

基于标量衍射理论,建立了分析光栅拼接误差的理论模型。计算了拼接过程中的垂直角偏、母线偏转两种旋转误差对光栅远场的影响,得到了解析表达式。数值分析了旋转误差及旋转误差与平移误差同时存在时的远场分布,结果表明不同误差存在时远场分布不同,旋转误差对远场分布影响较大,母线偏转与平移误差之间存在一定的补偿性,若使光栅达到良好拼接,旋转误差必须控制在微弧度级以下。     

非酿酒酵母菌的分离鉴定及产酯关键酶活性的研究

采用传统培养分离法从新疆葡萄表皮分离酵母菌，结合形态观察及WL培养基鉴定，选取代表性菌株进行分子生物学鉴定，并测定筛选菌株的产酯含量及产酯关键酶活性。结果表明，共分离出72株酵母菌株，筛选出33株代表性菌株，其中非酿酒酵母31株，归属于10个属，分别为红酵母属（Rhodotorula）、隐球酵母属（Cryptococcus）、有孢圆酵母属（Torulaspora）、克鲁维酵母属（Kluyveromyces）、有孢汉生酵母菌属（Hanseniaspora）、洛德酵母属（Lodderomyces）、梅奇酵母属（Metschnikowia）、棒孢酵母属（Clavispora）、毕赤酵母属（Pichia）和锁掷酵母属（Sporidiobolus），且Rhodotorula（16.13%）、Hanseniaspora（16.13%）和Pichia（19.35%）为主要非酿酒酵母。非酿酒酵母中Torulaspora XM2（5.22 g/L）、Pichia K3（4.91 g/L）、Hanseniaspora HE3（4.63 g/L）和Pichia ML3（4.57 g/L）总酯含量较高。通过对其产酯关键酶活性的测定推测乙酸酯水解酶及醇乙酰基转移酶对酯类物质的生成可能有极大地影响。     

用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构

利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件。用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果。研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力。     

产类胡萝卜素酵母菌的筛选及色素稳定性分析

该研究从赤霞珠酿酒葡萄表皮分离高产类胡萝卜素的酵母菌株,并研究了温度、氧化剂、还原剂及酸度调节剂等因素对菌株所产类胡萝卜素稳定性的影响。结果表明,从酿酒葡萄表皮分离到6株产类胡萝卜素较强的酵母菌,其中酵母菌Y7在以葡萄糖为碳源、蛋白胨为氮源的液体培养基中类胡萝卜素产量较高。经形态观察、生理生化特性和ITS基因序列分析鉴定,菌株Y7属于粘红酵母（Rhodotorula glutinis）。酵母菌生产色素的基本稳定性良好,但高温（＞40 ℃）、添加氧化剂（H2O2）、还原剂（亚硫酸钠、抗坏血酸）和酸度调节剂（柠檬酸、柠檬酸钠）使其稳定性下降,但影响较小,加入苹果酸和氢氧化钠对类胡萝卜素有增色的效果。研究结果将为粘红酵母Y7在类胡萝卜素商业化生产中的应用提供参考。     

用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓

考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。     

抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势分析

针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型,并将统计分析的趋势面法引入到厚胶曝光参数变化规律的研究中,给出了厚胶AZ4562曝光参数随胶厚及工艺条件的变化趋势,为开展厚胶光刻实验研究和曝光过程模拟提供指导性依据。     

酿酒葡萄表皮产酶非酿酒酵母的筛选及其产酶特性研究

非酿酒酵母是葡萄酒发酵过程中主要微生物之一,对葡萄酒品质具有重要影响。该研究从新疆昌吉的酿酒葡萄表皮分离产酶非酿酒酵母,基于26S rDNA序列对菌株进行分子生物学鉴定,并研究其产酶特性。结果表明,从酿酒葡萄表皮分离到酵母菌株62株,其中毕菌株CZ4（赤克鲁维酵母（Pichia kluyveri））产β-葡萄糖苷酶活性最高为214.57 U/mL,菌株KS5（葡萄有孢汉逊酵母（Hanseniaspora uvarum））产蛋白酶活性最高为178.56 U/mL,菌株KS3（仙人掌有孢汉逊酵母（Hanseniaspora opuntiae））产脂肪酶活性最高为184.68 U/mL。随着培养时间与SO2、糖以及酒精度的增加,3株高产酶酵母对糖、酒精和SO2耐受性整体呈现先增加后减少的趋势。     

基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展

随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。     

用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓

基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变。文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程。结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀。数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径。     

红葡萄酒中氨基甲酸乙酯检测方法的优化

该研究使用高效液相色谱-荧光检测法（HPLC-FLD）检测红葡萄酒中氨基甲酸乙酯（EC），并进一步优化检测方法。结果表明，最佳检测条件为吸附时间10 min、正己烷作为淋洗溶剂、乙酸乙酯与乙醚（5∶95，V/V）作为洗脱溶剂，荧光反应时间5 min。在最佳的实验条件下对氨基甲酸乙酯进行检测，在50～200 μg/L范围内时，线性关系良好，该方法的平均加标回收率为88.5%～92.8%，精密度实验结果相对标准偏差（RSD）为2.9%～6.9%，检出限为5 μg/L，说明该检测方法具有较好的精密度和准确度，易于掌握，可用于葡萄酒中氨基甲酸乙酯的测定，具有良好的应用前景。