退火对反应磁控溅射制备ITO薄膜性能影响

采用铟锡合金靶(铟-锡，90-10)，通过直流反应磁控溅射在玻璃基片上制备出ITO薄膜，并在大气环境下高温退火处理。研究了退火温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响。研究表明，随着退火温度升高薄膜的电学特性得到很大提高。     

分流法超高/极高真空校准装置性能研究

分流法超高／极高真空校准装置由极高真空（XHV）系统、超高真空（UHV）系统、流量分流系统三部分组成。使用磁悬浮涡轮分子泵和非蒸散型吸气剂泵组合抽气在XHV校准室获得了10^-10 Pa的极高真空；采用的分流法真空规校准方法，使压力校准下限延伸到了10^-10 Pa；利用非蒸散型吸气剂泵对惰性气体无抽速的特性，使用惰性气体校准时，减小了校准下限的不确定度；校准装置的校准范围为（10^4～10^-10）Pa，合成标准不确定度为1．5％～3．5％。     

真空退火对VOx薄膜相结构及表面形貌的影响

以V2O5粉末为原料,采用无机溶胶-凝胶法制备了V2O5凝胶膜,经过真空退火处理得到了以VO2为主的薄膜。利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同实验条件下得到的薄膜的物相和表面形貌进行分析,得出了VOx薄膜相结构及表面形貌与真空退火条件之间的关系。     

MHD角速度传感器磁场设计研究

MHD角速度传感器是在轨进行高精度角颤振测量的关键器件。通过对2种MHD角速度传感器进行对比研究,确定径向磁场方式的传感器为更适宜我国当前空间发展需要的MHD角速度传感器。并设计了其径向磁场结构,获得在导电流体间隙处需要的磁感应强度,测试结果与模拟设计结果一致,为MHD角速度传感器研制奠定了一定的基础。     

非晶氧化钒薄膜光学性质研究

在氩氧混合气氛中,常温下用脉冲磁控溅射方法在石英玻璃和硅片上制备了V2O5薄膜。用X射线衍射、X射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜微观结构进行了测试,用分光光度计测量从200～2500nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱。结果表明,常温下制备的V2O5薄膜为非晶结构,光学能隙为2.46eV。     

光学太阳反射器卫星搭载数据的非线性拟合

采用的线性回归和优选法相结合的方法较好地解决了形如函数 y=α[1-exp(-bx)]的曲线拟合问题。通过对国产光学太阳反射器卫星搭载数据的拟合分析,得出了光学太阳反射器的光学性能的空间衰变的经验表达式。并对光学太阳反射器的长期空间稳定性进行了预测。     

德国工业设备管理公司的空间环模设备

介绍了德国工业设备管理公司的空间环模设备。着重介绍了热真空模拟试验及其设备的结构与性能。还介绍了热真空模拟试验设备的残气分析。     

工作在放电环境中的石英晶体膜厚监控仪

石英晶体胰厚监控仪已广泛应用于蒸发镀膜,离子刻蚀厚度的精细控制和真空系统污染监测等方面.但一般的石英晶体膜厚监控仪使用的蒸发型探头却不能在溅射系统放电区中正常工作.实践表明,在溅射系统中,由阴极靶发射的二次电子碰撞测量晶体而引起的热应力是导致石英晶体膜厚监控仪测量失效的主要原因.为此,对测量探头做了改造,设计了一种带偏转磁场的溅射型测量探头,使石英晶体膜厚监控仪能在平面直流磁控溅射镀膜系统中稳定地作原位置膜厚监控.为了对测量计算公式进行修正,用实验确定了修正因子.     

TaOx离子导电薄膜的制备与性能

采用直流反应磁控溅射方法制备Ta2O5薄膜,并研究了其制备工艺;在Amoldussen法的基础上,采用了一种新的方法对Ta2O5薄膜离子导电性能进行了测试。结果表明,制备的Ta2O5,薄膜具有良好的离子导电性能。     

光谱拟合法确定一种钙钛矿结构薄膜材料的复数光学常数

为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧La0.8Sr0.2MnO3薄膜材料的复数光学常数,利用光学薄膜原理和数学优化方法,并基于钙钛矿结构材料的色散模型,对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜在波数400～1250cm-1范围内的反射光谱进行了全谱拟合,并由拟合参数确定了薄膜的复数光学常数.拟合结果显示,测试光谱和拟合光谱较为一致,说明钙钛矿结构材料的色散模型适用于描述La0.8Sr0.2MnO3薄膜的光学特性,利用该色散模型并通过光谱拟合法获得La0.8Sr0.2MnO3薄膜的复数光学常数是获得此材料光学特性的一种有效的方法.