烟草行业IT治理原型系统设计与实现

该文分析了烟草行业信息化面临的现状,指出IT治理是解决当前问题的有效办法,重点研究论述了烟草行业原型系统的软件设计与实现过程,并就一些关键问题作了深入分析与研究。     

集中之后话服务

税务大集中建设有哪些经验与成果?大集中之后做什么?10月中旬,北京地税局协同南京、广州、济南 、武汉、杭州等市地税局的信息部门,以“科学执政,提高公共服务水平”主题,召开了一场税务信息化研讨会。与以往的税务信息化研讨会不同,这次研讨会首次把执政、服务与信息化紧密联系在一起。这不仅意味着,北京地税的大集中系统,已经可以为老百姓提供切实服务,也显示大集中在促使税务部门职能变革上,成功地迈出了一大步。     

外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响

通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响。实验发现 ,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布 ,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化 ,靶的利用率在S S构型和S N构型中均比无外加磁场时要高。利用空间模拟磁场成功的解释这一实验现象。在S S构型和S N构型中 ,后者靶的刻蚀深度轮廓线比较平坦 ,相对刻蚀深度值更大 ,更能有效地提高靶的利用率     

电磁制动器的发展现状及应用前景

对电磁制动器的应用现状进行了分析,总结和扩展了各类型电磁制动器的特点和研究现状,主要包括弹簧式电磁制动器、电涡流式电磁制动器,以及永磁式电磁制动器。分析了电磁制动器发展所面临的问题,展望了电磁制动器的发展趋势。电磁制动器在工程领域具有广阔的应用前景,对电磁制动器的研究具有重大的工程价值。     

与环境友好的化学-生物法制备D-精氨酸和L-瓜氨酸

L-精氨酸在水溶液中利用自身所产生的碱性溶液,用n(水杨醛):n(1-精氨酸)=0.1:1的水杨醛为催化剂,L-精氨酸可以快速消旋为DL-精氨酸.后以DL-精氨酸为底物,利用粪链球菌(streptococcus faecalis)精氨酸脱亚胺酶对L-精氨酸的专一脱亚胺作用,同时制备D-精氨酸和L-瓜氨酸,分别以92.3%、94.2%产率获得光学纯的D-精氨酸和L-瓜氨酸.     

创新育人模式 提升内涵建设

我校以科学发展观为指导,认真贯彻落实全国教育工作会议和《国家中长期教育改革和发展规划纲要（2010—2020年）》精神,紧紧围绕仙居县教育局2011年工作重点,以“责任教育”为主题,创新育人模式,促进学生全面发展,提升教育品质,加强学校内涵建设,     

黏弹性管道中气液两相瞬变流实验及模型

为了给管道安全设计提供建议,以及使基于瞬变流理论的管道故障检测技术在黏弹性输水管道中得以应用,对黏弹性管道中气液两相瞬变流进行研究.首先,在重力流有机玻璃管道中进行快关阀气液两相瞬变流实验.其次,以离散蒸汽空腔模型(DVCM)和离散气体空腔模型(DGCM)为基础,用体积含气率对瞬变流波速进行修正,建立两个将非稳定摩阻和管壁黏弹性影响考虑在内的一维气液两相瞬变流模型.实验和模型结果表明:在初始流型为泡状流的低压系统中,DVCM能准确模拟实验波速,而DGCM求得的平均波速值比实验波速大.在模拟初始流型为泡状流的瞬变流时,DVCM模拟结果与实验值吻合得很好,而DGCM模拟结果的最大峰值更大,对管道设计来讲更为安全;在气液两相瞬变流过程中,气体的可压缩性使得管壁的黏弹性效应对压力的衰减作用大为削弱,导致非稳定摩阻的影响不可忽略,且由于气体存在使得整个瞬变流过程中压力衰减变慢.     

基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe—N薄膜特性的影响

利用反应磁控溅射方法制备了Fe-N薄膜,发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态,退火或在沉积时对基片施加一磁场,可使晶粒变大,并出现大对应内部存在应力的γ－Fe4N的（110）界面的择优取向,特别是外加的磁场使得Fe-N薄膜具有明显改善的磁性能,作利用磁场中带电粒子受约运动的观点解释了这一现象。     

反应溅射制备的a-A12O3薄膜中的时效过程

用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜,以Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下：（1）同一样品,高频下测得的电容随样品旋转时间而变小的趋势相对于低频值要缓慢。（2）其它条件相同时,低的工作气压下形成的样品,其电容量不易随时间而改变。（3）真空中的低温热处理有助于改善时效过程。（4）时效的机制可能是样品中亚稳态的缺陷逐渐消失。这些缺陷跟缺氧和吸水没有必然联系,也不太可能是Al2O3/Al的界面缺陷;它们的消失跟电老化也无必然联系。机制之一可能是氧过量引起的铝离子过配位的逐渐消失。     

外加磁场对磁控溅射过程及薄膜物性的影响

通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场,使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜。与此同时,磁性薄膜的许我物理性能发生了变化。这种变化还出现于非磁性靶的情况中。本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等。通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因。