基于数控技术的自动化冲击钻孔灌注桩施工技术

结合临海头门港区跨海大桥钻孔灌注桩施工实例,对数控技术的自动化冲击钻孔灌注桩工艺原理、钻机就位、泥浆制备、程控系统安装、调试、自动冲击钻孔、清孔、钢筋笼安装及灌注水下混凝土等方面进行了详细的研究分析。分析表明采用数控技术的自动化冲击钻孔桩施工工艺,加快了施工进度、降低了工程成本,而且所有桩基经超声波检查均为I类桩,施工质量好。     

锈蚀钢筋套筒灌浆连接混凝土结合界面直剪性能试验研究

混凝土结合界面是装配式混凝土结构的薄弱环节,套筒灌浆连接混凝土结合界面直剪性能对装配式混凝土结构安全性能至关重要。设计试验研究了钢筋锈蚀对直剪荷载作用下套筒灌浆连接混凝土结合界面的裂缝开展、破坏形态、裂缝宽度-竖向相对滑移关系以及名义剪应力-竖向相对滑移关系的影响,并通过理论分析研究了钢筋锈蚀对结合界面剪应力-竖向相对滑移曲线特征参数与特征系数的影响。研究结果表明:钢筋锈蚀的发展对结合界面直剪加载过程中的裂缝发展刚度具有两个阶段影响,在加载初期,随锈蚀率增长,裂缝发展刚度下降;而在加载后期,随锈蚀率增长,裂缝发展刚度上升。钢筋锈蚀会显著降低套筒灌浆混凝土结合界面的极限剪应力和残余剪应力,当钢筋锈蚀率为3.5%和7.5%时,结合界面的极限剪应力分别下降41%和49%,残余剪应力分别下降约35%和59%。     

基于多混沌系统的彩色图像加密方法

为了提高彩色图像加密的安全性和加密性能,设计了一种基于多混沌系统的彩色图像加密方法.将一个彩色图像分解为R、G、B三个灰度图像,使用MD5算法动态生成加密算法的初始值,然后使用三种不同的基于混沌的加密结构对三个图像进行加密.对R图像使用Feistel结构加密,其中Feistel结构的S一盒由Logistic混沌序列和Hyperhenon混沌序列组合产生;对G图像使用由Lorenz系统产生加密序列对图像进行代替和置换操作的加密结构;对B图像使用由分段线性混沌映射产生加密序列,然后加密图像的加密结构,再把加密后的图像结合起来生成加密后的图像.理论分析和实验结果表明,该加密方法能够较为有效地保证彩色图像加密的安全性.     

图像阈值分割技术中的部分和算法综述

分析图像阈值分割技术在理论改进与实际应用过程中所面临的瓶颈问题,寻找解决问题的切入点。从提高算法效率的角度,以熵阈值法和Otsu阈值法为例,通过分类对比并结合理论综述,整理发掘出部分和算法研究对于阈值分割技术的作用和意义。与部分和问题相融合,是阈值分割技术未来的研究方向和重点。     

胶订操作体会

胶订工艺是目前书刊装订的主流方法,也是未来书刊装订发展的方向.如何掌握正确的操作方法,保证产品质量,最大限度发挥产能是目前每个印刷厂普遍都关心的问题.本文就胶订实践操作中的经验谈一些体会.     

钛材上火焰喷焊Ni-WC耐磨涂层的组织和性能

研究了在钛合金Ti-6Al-4V表面上采用火焰喷焊技术制备镍基碳化钨型自熔性合金涂层的可行性，利用SEM、XRD等手段分析了它的组织和性能。结果表明：采用火焰喷焊技术在钛合金表面上获得了功能梯度涂层，Ni-WC涂层为韧基体＋硬质相的耐磨组织，涂层和过渡层之间形成了韧性镍基合金层，在涂层、过渡层和基体之间形成了牢固的冶金结合，涂层的组织和显微硬度沿层深方向呈连续性和渐变性，喷焊表层中WC起到了主要的抗磨作用，涂层磨损失重仅为未喷焊钛合金的1／10。     

不同界面层对HfTaON栅介质MOS特性的影响

采用磁控溅射方法,在Si衬底上制备HfTaON高k栅介质,研究了AlON、HfON、TaON不同界面层对MOS器件电特性的影响。结果表明,HfTaON/AlON叠层栅介质结构由于在AlON界面层附近形成一种Hf-Al-O"熵稳定"的亚稳态结构,且AlON具有较高的结晶温度、与Si接触有好的界面特性等,使制备的MOS器件表现出优良的电性能:低的界面态密度、低的栅极漏电、高的可靠性以及高的等效k值(21.2)。此外,N元素的加入可以抑制Hf和Ta的扩散,有效抑制界面态的产生,并使器件具有优良的抵抗高场应力的能力。     

一种改进的数字图像加密算法

为了能对经过剪切变换攻击的加密图像进行有效恢复,给出了一种基于混沌序列的数字图像加密算法,该方法在预处理的基础上,基于数字图像灰度矩阵位平面进行置乱加密,在恢复过程中通过象素邻域灰度信息进行恢复,能够有效抵御针对加密图像的剪切变换攻击,同时给出了一种非线性的、应用高维混沌系统产生二值序列的方法。实验表明,该方法具有较好的效率和安全性。     

基于位运算的数字图像隐藏技术

为了能够实现对数字图像内容信息的有效保护,文章结合基于混沌系统的数字图像加密算法,给出了一种基于位运算的数字图像隐藏技术。实验结果表明,该算法具有较好的隐藏效果和恢复效果,结合混沌加密算法,能实现对数字图像内容信息的有效保护。     

溅射沉积Cu膜生长的Monte Carlo模拟

在本文中,我们建立了一个较完整的基于动力学晶格蒙特卡罗方法的模拟薄膜生长的三维模型,利用该模型我们研究了溅射沉积条件下粒子的沉积角度、沉积速率以及入射能量对Cu膜生长的影响.模拟结果表明Cu膜表面粗糙度会随沉积角度和沉积速率的增大而增大,而相对密度随之减小.模拟的薄膜的三维形貌显示,在薄膜的表面存在着柱状结构,这与实验是相符的.