表面活性剂在浮选脱墨中的应用

阐述了表面活性剂在浮选法废纸脱墨中的应用.主要介绍了浮选法脱墨剂的要求以及表面活性剂在浮选脱墨中的作用原理、应用范围以及脱墨效果的影响.     

无光污染镀膜玻璃的理论设计

本文针对当前普通镀膜玻璃存在的光污染问题,从产生光污染的本质原因出发,介绍了两种目前较行之有效的解决方案,一种是通过增加漫反射和散射的方法来达到消除光污染的目的,另一种是通过减反射的方法来达到消除光污染的目的.希望对彻底解决光污染难题有所帮助.     

退火处理对Si/SiC纳米复合薄膜性能与结构的影响

我们以硅烷(SiH4)和乙烯(C2H4)为原料,采用常压热分解APCVD法制备出了Si/SiC复合镀膜玻璃,并对其进行了退火处理.本文利用多种测试技术对退火后硅镀膜玻璃的光学性能以及其组成结构、化学稳定性等方面作了系统研究,发现退火处理能在保持镀膜玻璃其它重要性能变化不大的基础之上较好地改善硅镀膜玻璃的光学性能、降低玻璃的反射率、有效地防止目前日趋严重地光污染问题,为改善SSi/SiC复合镀膜玻璃的性能、扩大其应用领域作了有益的探索.     

温度对浮法在线APCVD法生产的TiO2薄膜结构与性能的影响

通过模拟浮法在线APCVD法生产TiO镀膜玻璃工艺,详细研究了玻璃基板温度对TiO薄膜膜层结构、形貌、光催化性能的影响。研究发现,基板温度影响TiO薄膜中各种晶相的相对比例,而不同晶相组成的膜层结构对膜层表面形貌和光催化性能有很大的影响。     

粉煤灰的利用

从环境保护和能源可持续发展战略的角度,介绍了粉煤灰在抄造对白度要求较低的纸中的应用,用粉煤灰做填料与常规的造纸填料相比较,粉煤灰具有价格低、购买和运输方便、节约能源,同时还可减少对环境的污染等优点。     

低镜面反射硅镀膜玻璃的微结构调制

通过反射率、透射率参量测试和高分辨电镜分析 ,研究了硅薄膜中微晶粒数量、尺寸和分布对镀膜玻璃镜面反射效果的影响。发现通过一定的热处理工艺可以调整硅膜中的晶粒状况 ,得到硅微晶粒数量众多、分布弥散且晶粒大小在数十至数百纳米的硅 /非晶硅复合薄膜 ,使入射光产生漫散射进而有效降低镜面反射所造成的光污染。     

F掺杂SnO2透明导电薄膜微结构及性能研究

通过实验测量常压热分解CVD工艺制备的F掺杂SnO2薄膜的方块电阻、膜厚、形貌、微结构、中远红外反射率等性质，详细研究了基板温度对SnO2薄膜微结构的影响和微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。研究发现，将基板温度从375℃提高到525℃以上，薄膜结晶程度大大提高，薄膜厚度从25nm提高到近300nm，方块电阻下降了两个数量级，中远红外的反射率达到了85％以上.     

微波处理杨木外形观察及变化机理初探

从大量实验结论出发,通过微波处理杨木外形的变化,试图解释微波处理和微波预浸渍能对制浆过程产生降低K值、提高得率等作用的原因.此外还通过显微图片比较分析了微波对阔叶木和针叶木处理外观不一样的原因.     

无光污染镀膜玻璃的理论研究

针对当前有些镀膜玻璃存在的高可见光反射比而引起的光污染问题,从产生光污染的本质原因出发,介绍了两种目前较行之有效的解决方案,一种是通过增加漫反射和散射的方法来达到消除光污染的目的,另一种是通过减反射的方法来达到消除光污染的目的.希望对彻底解决光污染难题有所帮助.     

常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究

本文通过高分辨电镜(HREM)、原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了常压化学气相沉积法硅镀膜玻璃硅薄膜的结构、表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺(沉积温度和基板走速)对薄膜的平均反射率和平均透过率有很大的影响,通过控制合适的工艺参数可以制得具有纳米颗粒镶嵌结构的复合薄膜.具有此种形貌结构的薄膜能在基本部增大透过率的情况下有效减少薄膜镜面反射,减少光污染.