浅议加强施工现场管理的途径

本文通过对近年来我国施工现场管理的发展现状、以及加强我国施工现场管理的必要性加以论述,并由此提出加强施工现场管理的有效途径。     

涂覆技术与涂覆型催化剂研究进展

对涂覆技术及涂层与载体的结合机理进行概述，对比滚涂、喷涂、浸涂3种常用的催化剂涂覆技术，总结上述3种涂覆技术对原料性质和涂覆工艺的要求。滚涂采用涂层粉体为原料，主要用于球形催化剂；喷涂、浸涂以涂层浆液为原料，可用于各种形状催化剂。概述滚涂催化剂、喷涂催化剂、浸涂催化剂研究进展，包括涂覆工艺参数优化、原料性质调变及助剂选取对涂覆型催化剂性能的影响，以及改进涂覆型催化剂物化性能的方法。提出难以兼顾机械性能和反应性能是涂覆型催化剂应用受到限制的主要原因，改进涂覆型催化剂的综合性能、提高其应用价值是未来涂覆技术的研究重点。     

电弧离子镀与中频磁控溅射复合制备TiAlN薄膜

采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品.电子扫描电镜(SEM)、能谱和X射线衍射(XRD)分析结果表明:此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液滴尺寸更小,针状孔洞基本消除,组织更为致密均匀.TiAlN薄膜的含Al量为0.86 %(原子百分比)左右,Ti与N的含量比(原子百分比)大致为1:1,Al原子的加入使TiN结晶结构发生畸变,晶格常数变小.TiAlN薄膜的硬度比TiN薄膜的硬度,提高30 %左右.     

电弧离子镀与中频磁控溅射复合制备TiAlN薄膜的研究

采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品。扫描电镜、能谱和X射线衍射分析结果表明,此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液滴尺寸更小,针状孔洞基本消除,组织更为致密均匀。TiAlN薄膜的Al含量(摩尔分数)为0.86%左右,x(Ti)%∶x(N)%约为1∶1,Al的加入使TiN结晶结构发生畸变,晶格常数变小。TiAlN薄膜的硬度比TiN薄膜的硬度有较大的提高,提高了30%左右。     

油田矿区HDPE排水管道施工方法

HDPE排水管即高密度聚乙烯缠绕结构壁管材排水管,是一种新型管材,适用于油田矿区室外排水管道工程.近年来通过大庆油田矿区建设应用HDPE排水管的实践证明,其具有优良的安装、环保性能及低廉的价格,已在油田矿区排水设计中逐步取代水泥管和铸铁管,使HDPE排水管作为油田排水管道的主流迅速发展起来.     

室温下海藻酸钙水凝胶与丙烯腈的快速接枝共聚

探索了室温下、短时间内,海藻酸钙水凝胶与乙烯基单体丙烯腈接枝共聚的反应条件.在室温(20℃)下,5g平均直径为2.5 mm的海藻酸钙水凝胶小球用8.5×10-2mol/L K2S2O8及7.0×10-2mol/LNaHSO3引发10min后,与浓度为6.22mol/L的丙烯腈反应30min,接枝率可达1520%.FTIR证实海藻酸钙水凝胶与丙烯腈之间发生了接枝共聚反应;而接枝共聚对水凝胶结构的影响,则用荧光测定法作了分析.     

催化剂涂覆工艺研究进展

涂层式催化剂可以将载体的高强度和涂层的高反应性能相结合,目前已受到国内外的广泛关注。涂覆成型是涂层式催化剂制备过程中的关键工序,对催化剂的性能有重要影响。概述了浸涂成型、喷涂成型和滚涂成型等几种常见的涂覆工艺,介绍了不同涂覆方法在催化剂载体、成型助剂和工艺方面的特点和研究进展。在归纳和总结涂覆工艺对催化剂成型效果、涂层特性和产品反应性能的重要影响的基础上,提出未来还需对涂覆工艺进一步优化拓展,以拓宽涂覆技术的应用范围。     

基于建筑设计院模式的跨专业团队毕业设计的研究与实践

在国际高等工程教育界“工程教育回归”的浪潮中,南京工业大学结合自身特点与优势,率先在土建类专业毕业设计过程中建立了“基于建筑设计院模式”的跨专业毕业设计团队,尝试对传统建筑工程教育教学模式进行改革,经过5年的实践与完善,在跨专业团队毕业设计方面积累了一些经验,取得了一定成果。     

复合工艺制备TiAlN薄膜及其高温抗氧化性能研究

采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热处理炉内对薄膜进行高温抗氧化试验,分析了薄膜氧化前后的表面形貌、断口形貌及显微硬度.结果表明:TiAlN薄膜氧化前和氧化后的硬度均随着铝靶磁控溅射电流的增强、铝含量的提高而增加;TiAlN薄膜的高温稳定性明显优于TiN薄膜;TiAlN薄膜经800℃氧化后发生膨胀而变得疏松,内部发生了柱状晶化,致密性下降.     

我们真的需要全音域音箱吗?

对全音域音箱的定义,是指能完整发出20Hz～20kHz音频的音箱。对于用传统锥盆单体,平面振膜或静电振膜发声,它们都有共同的物理特性:要发出越低沉的频率,所需要的音箱体积或振膜面积就越大。因此,所谓全音域音箱,通常都是落地式构造。但是现在新开发的书架型小音箱,有很多不也都标示低频范围可以到40Hz或更低吗?的确是的,不过请注意,这些小音箱的低频下限是指在-3dB、-6dB或甚至更低声压处的频率。所谓的-3dB,也就是低频截止点的地