"神光Ⅱ"基频直接驱动内爆出中子靶制备工艺

描述了"神光Ⅱ"基频直接驱动内爆出中子靶制备工艺.用该工艺制备的爆推靶、烧蚀靶在"神光Ⅱ"装置上用基频光进行物理实验,分别获得了4×109个中子和6×108个中子的高中子产额,与理论计算的中子产额值符合较好.     

聚乙烯醇缩甲醛(PVF)有机膜上沉积金属膜的XPS研究

介绍了在聚乙烯醇缩甲醛（PVF或Formvar）膜上蒸镀Au，Pd和Ag金属膜，用XPS研究其表面与界面的化学组分与价态。实验发现，在PVF膜上蒸镀Au，Pd和Ag后，三种不同价态的C1s相对含量均发生了变化。表明金属原子在PVF膜上的沉积是化学吸附。     

GQ—1型金属用水溶性固体清洗剂

我国每年用于金属清洗的汽油、煤油约三十万吨,其中仅兰州地区每年就需用五千吨左右,这对能源是极大的浪费。八十年代初我国开始研制代替汽油、煤油、柴油清洗金属的水基清洗剂,现已有不少产品问世。现行的金属清洗剂在某些方面性能尚有不足之     

整体式空腔靶制备工艺

空腔靶是惯性约束聚变（ＩＣＦ）研究中间接驱动靶的主要靶型之一,它由精密车削微加工工艺的结合电镀工艺完成。     

含Pb~(2+)废水的综合处理及利用

铅是对人体及其他生物危害极大的重金属之一。虽然铅在环境中稳定,一定浓度下对植物生长不引起明显危害,但铅对大气、     

Ag在低温PVF衬底上气相沉积的分形结构

用透射电子显微镜观察了Ａｇ气相沉积在不同温度的聚乙烯醇甲醋薄膜衬底上的显微结构，发现在２１３Ｋ的ＰＶＦ衬底上沉积的Ａｇ具有分形结构，同时观察到有许多大小约为０．３μｍ的“黑点”分形结构 ，这些“黑点”是由特别致密的微晶组成的。     

埋点靶制备工艺研究

研究了激光惯性约束聚变（ICF）实验中一种基础基准靶埋点靶的制备工艺过程。埋点靶的制备过程主要包括CH膜的制备、埋点的定位和埋占材料的制备。其中,CH薄膜的制备及其性质是制备埋点靶的关键工艺环节。最后给出了埋点靶的制备工艺流程。     

液滴法制备空心玻璃微球中初始液滴的定量形成

通过对液滴法制备激光聚变靶丸空心玻璃微球（HGM）中液滴形成过程予以分析,导出了射流初始速率、液滴直径及目标HGM直径分别与进为压力、小孔板孔径、射流振荡频率、溶液浓度及密度等因素的定量表达式,并在进料压力为13．7、18．7、23．6、28．5、33．4、38．3、43．2kPa和溶液中玻璃形成物浓度为1％、2％、4％、6％、8％、12％、16％下,测量了孔直径分别为108μm、142μm和168μm的小孔板的流量及流动系数,给出了射流初始速率、液滴直径及目标HGM中玻璃形成物含量的定量控制条件,实验结果符合定量表达式。