接近式光刻图形失真的部分相干光理论分析

光刻过程中由于光的衍射效应产生的非线性畸变对光刻面形质量具有严重影响，是造成光刻微结构图形失真的主要原因之一，为此，研究了接近式紫外光刻中部分相干光的传播过程，建立了相应的光刻理论模型，对光刻成像中的误差产生机理进行分析．该模型综合考虑光源和照明系统对掩模微结构附近光场相干性的影响，将光刻模拟分为3部分．首先根据VanCittert-Zernike定理确定了光源经扩束准直系统传播到蝇眼透镜入射面时光场上任2点的互强度．然后应用部分相干光的传播理论，由Hopkins公式得到部分相干光经蝇眼透镜传播到掩模平面后其上任一点对的复相干度的分布规律．最后根据互强度传播定律，分析从掩模面到光刻胶表面的衍射效应，得到光刻胶表面的光强分布及变化规律，并且通过误差的仿真分析模拟得到光刻胶图形轮廓．结果表明，理论模拟结果与实验较为吻合．该方法能准确地得到衍射光场的分布，进行光刻误差分析，从而能较好地发现曝光图形缺陷．     

电能表自动化检定流水线耐压装置的研究与应用

现有技术在进行电能表交流电压的耐压试验时,数据采集不方便,自动化控制程度低,不适合当前自动化流水线使用,本文提出一种适用于电能表自动化检定流水线耐压装置,其数据采集方便,自动化程度高,可以适用于不同的电能表自动化流水线耐压测试。     

广义非线性电能计量校验及评测系统的现场应用

目前,大量的电力电子装置已被广泛的应用到电网中,从而导致了谐波含量的增加。然而,现有的电能计量装置却仍是基于电网中的谐波含量满足相应标准的要求为前提的,当谐波含量增大到不满足相应要求时,将会极大的影响计量的准确和可靠。为解决该问题,需要提出一种适用于现场非线性工况的电能计量方式和校验装置。本文通过研究典型的负荷模型,提出适于现场工况的电能计量方式。     

茶籽毛油中极性抗氧化物质的研究

茶树 (Camelliasinensis)种子经热榨制取的茶籽毛油经长期储藏仍不会氧化变质 ,在加速氧化试验中显示良好的氧化稳定性。以低级醇萃取得到的毛油极性萃取物 ,通过化学定性试剂显色及TLC层析分离证实其中含有酚类物质 ,但不含黄酮类物质。极性酚类物质的减少导致茶籽油氧化稳定性相应降低。而在RBD茶籽油中依不同浓度的添加极性萃取物 ,发现与氧化稳定性具有量效关系。极性酚类物质添加浓度 (X ,mgGA/kg)与加速氧化条件 (6 0℃ )下油样增重率达到 0 .5 %的天数 (Y0 .5% 具有如下线性关系 :Y0 .5% =0 .1419X 10 .6 4 ,(r =0 .9916 )。在添加量为 110mg/kg油时 ,使RBD茶籽油氧化稳定性基本恢复到毛油水平。证明极性抗氧化物质是茶籽毛油中主要的抗氧化因素。     

复方芪苓颗粒“一测多药”薄层鉴别方法研究

为了制定更加科学的复方芪苓颗粒质量标准,建立了一种复方芪苓颗粒中“一测多药”的快速薄层鉴别方法。采用薄层色谱法对复方芪苓颗粒中丹参、土茯苓和秦艽３味药进行“一测多药”定性鉴别,采用硅胶 ＧＦ２５４薄层板,以Ｖ（石油醚）∶Ｖ（乙酸乙酯）∶Ｖ（甲醇）∶Ｖ（无水甲酸）＝２∶７∶ １∶０．５为展开剂进行展开,取出晾干后置于２５４ｎｍ 紫外光灯下进行检视。结果显示：“一测多药”鉴别方法操作简便,结果可靠,专属性、耐用性和重复性好。所建立的方法可有效用于复方芪苓颗粒的质量控制,且可快速完成鉴别,提高了检测效率,减少了试剂的消耗,极大地降低了检测成本。     

高稳定性磷脂的酶催化合成及应用

对采用脂肪酶催化合成高稳定性磷脂及其应用进行了讨论。虽然天然磷脂功能繁多 ,但因其氧化稳定性较差 ,在许多应用场合受到限制。采用脂肪酶合成高饱和脂肪酸含量的磷脂时 ,受到合成途径、酶种类及用量、溶剂、水份含量以及底物等因素的影响。高稳定性磷脂是制备乳化体系、脂质体体系、药物体系等的高性能原料。可以认为 ,高稳定性磷脂的酶催化合成及其产品前景广阔     

具有较低热膨胀系数的铁镍合金和铁镍钴合金的磁性温度稳定性的研究

本文研究了具有较低热膨胀系数的Ｆｅ－Ｎｉ和Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ合金的磁性和磁性温度稳定性。研究发现,Ｆｅ－Ｎｉ系的两种合金的μｍ均随温度升高而增加,但是在Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ合金中,由于合金成分的不同,μｍ随温度的变化趋势也不同。另外,本文还研究了不同含量的微量元素Ｃｕ对磁性和磁性温度稳定性的影响。     

接近式紫外光刻中图形失真的分析与预修正仿真

接近式紫外光刻中光刻胶图形形状失真是影响基于紫外光刻工艺的大深宽比微结构质量的重要因素之一.为把握其规律,并探寻减小光刻胶模型形状失真的对策,利用部分相干光理论建立光刻理论模型,计算光刻胶表面的光强分布及变化规律,模拟得到的光刻胶图形轮廓明显地呈现拐角圆化和直边带毛刺等畸变现象.提出一种应用遗传算法的误差预补偿方法,在掩模图形的设计阶段,调整引起衍射的掩模特征形状以实现光刻胶表面的衍射光场调制,并根据光刻胶曝光轮廓特点,提出一种分段分类的思想,设计评价策略,减小问题的求解空间,实现了掩模设计图形的快速优化.结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度,图形质量得到了显著改善.该研究为提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路.