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利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2 O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2 )涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2 O4对MgF2 涂层有严重侵蚀作用,N2 O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了2 0 %～30 % .在一定的时间内,气态N2 O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6 9×10 4Pa和2 0 0Pa的N2 O4蒸气中分别放置10min ,前者厚度为4 0 μm的MgF2 涂层基本消失,表面漫反射率下降约2 0 % ;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2 涂层表面N2 O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2 O4分子通过化学吸附过程提取MgF2 的几率 相似文献
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