几种添加剂作用的微弧氧化膜表面结构及防腐性能

为定性比较添加剂对涂层防腐性能的作用,通过恒压微弧氧化(MAO)方法在AZ31B镁合金表面制备氧化陶瓷膜,采用扫描电子显微技术(SEM)、中性盐雾试验(NSS)等手段,考察了KOH及添加剂Na_2B_4O_7、C_6H_5Na_3O_7和EDTA-2Na浓度(质量浓度)对MAO膜表面形貌、防腐性能、粗糙度和厚度的影响。结果表明:单一组分Na_2SiO_3电解液因较高起弧电压而未能在260 V恒压条件下获得具有"火山口"形貌特征的MAO膜,其防腐性能较差。适量KOH因较低微弧等离子体诱发电压和OH-较快的放电作用,提高了涂层的防腐性能。在优化的Na_2SiO_3-KOH体系中引入10~15 g/L Na_2B_4O_7,因其特殊的形成过程及其"火山喷射状"的微结构,且获得的MAO膜具有自封孔结构,提高了其对镁合金的点腐蚀防护性能。C_6H_5Na_3O_7和EDTA-2Na具有抑弧效应,获得的MAO膜表面微孔分布均匀,但降低了MAO膜的厚度、粗糙度以及防腐性能。     

球轴承振动产生的原因及改进措施

从工艺装备方面分析了球轴承噪声及振动加速度产生的原因。经过了一系列的改进，大大地提高产品的加工精度和质量，降低了生产成本，给企业带来可观的效益。     

关于建立在役建筑物安全性鉴定制度的建议

引言为配合《建筑法》的修订,保证在役建筑物的正常、安全使用,维护国家和人民的财产和生命安全,有必要在建筑法中增加有关对在役建筑物设     

投影光刻中焦深问题的研究与分析

聚焦对投影光刻系统（如步进机）的影响是了解及控制光刻工艺的关键因素。随着特征尺寸的减小，它对聚焦误差的灵敏度迅速升高。因此，许多人认为聚焦灵敏度是光学光刻进入更小特征尺寸的主要障碍。本文将对焦深的定义作以定量的分析     

设备综合效率成为半导体工业最重要的评估方法

为了保持半导体工业２５％～３０％的年增长率，必须大大提高设备效率。一种新的被称为ＯＥＥ（设备综合效率）的评估方式，为芯片制造者和设备供应者提供了进一步理解和改进生产率的极好方法。