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1.
一、引言离子镀(Ion Plating)是由D.M.Mattox于1963年首先提出,经过二十年的试验研究而发展起来的现代镀膜技术。它是在真空室中使气体或被蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子冲击作用的同时把蒸发物或其反应产物蒸镀在基体上的方法。在离子镀的过程中,气体或被蒸发的金属原子进入等离子区有一部分被电离,离子受到电场的加速作用对准基体加速前进,因此入射到基板时就带有较高的能量,在此,膜层的成核与生长所需的  相似文献   
2.
本文的目的是介绍和报导作者利用DMP-450型真空镀膜机、通过改装,进行多种离子镀的研究工作。一、设备的改装DMP-450型镀膜机改装后如图1所示。  相似文献   
3.
一、引言 早在六十年代,在莫斯科苏联国家经济与科学成就展览会入口处,曾建造一座钛包覆经阳极氧化、象征火箭发射台的纪念碑,这是当时世界上最大的钛工艺制品。七十年代,英国、美国、日本等都十分重视钛阳极氧化工艺的研究,试制了铭牌、装饰品、雕塑品、手表壳、彩色画等,并申请了发明专利权。日本矿业公司曾制作九州日向的速水姬神宫的金黄色屋顶。看来,推广钛制品进  相似文献   
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