一种含钨酸钠/滑石粉缓蚀剂储存器的新型复合防腐蚀涂层

将缓蚀剂钨酸钠吸附在滑石粉层状通道中形成钨酸钠/滑石粉缓蚀剂储存器,并将缓蚀剂储存器分散引入到环氧树脂涂层中,设计出一种具有自修复功能的新型复合防腐蚀涂层;通过电化学测试、盐雾试验等研究了该复合涂层的防腐蚀性能。结果表明:该复合涂层显著提高了金属基体的耐蚀性。滑石粉层间的钨酸钠不断与Cl-发生离子交换,降低其在金属基体表面的含量,减缓金属的腐蚀;同时,复合涂层中不断释放出的钨酸钠缓蚀剂吸附于金属基体表面,起到修复涂层的作用。     

恒稳磁场对TA2钛合金表面矿化膜性能的影响研究

以TA2钛合金多孔氧化膜为植入体,在其表面进行羟基磷灰石(HA)矿化改性,重点探讨了恒稳磁场对矿化膜的结构组成、表面形貌、粗糙度、耐摩擦性能及耐蚀性能的影响规律.研究结果表明:通过改变恒稳磁场的强度,能够调控在多孔氧化膜表面沉积矿化膜的含量和Ca/P比.当恒稳磁场为0.4 T时,钛合金矿化膜摩擦碎屑的Ca/P比达到原生HA的Ca/P比(1.67),具有很好的生物相容性.同时,恒稳磁场的诱导加速了HA的沉积,提高了植入体的耐磨性和耐腐蚀性能.     

氟/硅丙烯酸树脂防污涂层的制备及性能研究

以全氟烷基乙基甲基丙烯酸酯为功能单体,采用自由基聚合法制备了具有防污性能的低表面能氟/硅丙烯酸树脂涂层,重点探讨了有机氟含量对树脂涂层的接触角、玻璃化转变温度、附着力、硬度等性能及单体转化率的影响,确定了氟/硅丙烯酸涂层的最佳制备条件。结果表明,氟/硅单体成功与丙烯酸单体发生共聚,当氟/硅丙烯酸涂层中的氟质量分数为14.60%时,树脂涂膜的接触角为103.7°,与基体结合力优异,同时具有良好的防腐性能。     

微米SiO_2粒子对硅丙树脂防污涂料性能的影响

在涂料中添加微纳米粒子可改善其性能,目前有关微米粒子对涂料防污、防腐蚀性能影响的报道较少。用自制的硅丙树脂作为基料,通过添加微米SiO_2粒子制得了防污涂料。利用静态接触角、硬度、黏附力和电化学阻抗测试探究了微米SiO_2粒子对涂层性能的影响。结果表明:微米SiO_2可稳定硅丙树脂涂层的静态海水接触角和力学性能,并提高涂层的耐海水腐蚀性能,且当微米SiO_2粒子含量为16.7%(质量分数)时,涂层的静态海水接触角和耐蚀性能最好。     

透明耐磨疏水有机硅改性丙烯酸树脂的制备及性能

目的 研究不同丙烯酸类单体以及硅烷偶联剂配比对所制得的树脂涂层自清洁性能与机械性能的影响。方法 以甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）、丙烯酸丁酯（BA）3种丙烯酸类单体与硅烷偶联剂（KH570）为原材料,采用自由基聚合法制备了具有透明耐磨性质的疏水有机硅改性丙烯酸树脂,加入羟基硅油使其交联固化,增强机械性能。重点研究了树脂涂层的接触角、附着力、硬度、透光率及耐摩擦等性能。结果 有机硅单体成功与丙烯酸类单体发生共聚,单因素优化后的树脂涂层的接触角为106.7°,与基体结合力为0级,硬度为H,在可见光波段内,涂覆在玻璃基底上的树脂最高透光率为92.08%,同时涂层具有良好的致密性。结论 将硅烷偶联剂（KH570）与丙烯酸类单体进行共聚,硅烷偶联剂的长链明显提升了共聚物的疏水性与稳定性,经交联固化后涂层表现出良好的机械性能与稳定性,并且由于所加单体的折射率都<1.5,因而涂层表现出一定的增透效果。     

铝表面超疏水复合涂层的制备及其表面性能

目的 通过在纯铝表面构筑超疏水涂层,优化金属铝表面,并强化其应用性能。方法 采用阳极氧化法在铝表面构筑具有纳米孔洞的Al2O3薄膜,再利用全氟癸基三乙氧基硅烷修饰表面,得到超疏水复合涂层,并研究氧化电位和表面修饰时间对纳米结构的构筑及疏水性能的影响,研究超疏水复合涂层表面润湿性、防污、自清洁和抗结冰性能。结果 控制阳极氧化条件,在氧化电位为16～18V、氧化时间为1h时,得到1～2μm的“花瓣”聚集叠加成的多级粗糙结构。通过6 h的表面修饰,得到了接触角为163.6°的超疏水性复合膜层。进一步对该超疏水膜层的性能进行分析发现,经超疏水膜层修饰后铝具有优异的防污性能;相较于纯铝,经超疏水膜层修饰后铝片的电化学阻抗模值高达105?·cm2,而电流密度仅为1.81×10-9 A/cm2;在高温和低温环境下,超疏水膜层均能保持超疏水性能;经砂纸来回打磨200 cm后,膜层的接触角仍大于150°。结论 经阳极氧化纯铝得到具有多级粗糙结构的阳极氧化膜,并通过表面修饰可制备接触角高达163.6°的超疏水性复合膜层。该超疏水复合涂层具有优异的耐腐蚀性、自清洁性、耐污染性,以及良好的耐蚀性、机械稳定性和...     

硅丙烯酸树脂/CeO2涂层的一步电合成制备及其防护性能研究

为提高低碳钢的防护性能，采用一步电合成法在低碳钢上制备了硅丙烯酸树脂/CeO₂涂层。采用塔菲尔极化曲线、电化学阻抗谱、接触角测量仪、SEM及EDS研究了主要电合成工艺参数(沉积电压、沉积温度、沉积时间等)及不同硅单体(乙烯基三甲氧基硅烷(A171)和乙烯基二甲基乙氧基硅烷(C₆H₁₄OSi))对涂层组成、结构以及性能(疏水性、耐蚀性等)的影响。结果表明，涂层最佳制备电压为-20 V,温度为50℃,时间为3 h,该条件下制得的涂层表面均匀平整，含有少量凹陷，疏水性最强，接触角达到110.5°;与基体相比腐蚀电流密度降低两个数量级，达到2.052×10^-7 A/cm²。选用A171作为硅单体制备的涂层具有更优异的防污耐蚀性能，其接触角比使用C₆H₁₄OSi作为硅单体所制备的涂层大30.3°,腐蚀电流密度也降低了约两个数量级。     

镀镍过程中电化学噪声能量（英文）

采用电化学噪声、扫描电子显微镜和掠射角X射线衍射等技术，研究电沉积电流密度(J_k)和镀液温度对Ni沉积层结构和电化学噪声能量(E^D)的影响规律，并详细探讨沉积层结构与E^D之间的关系。结果表明：E^D主要反映电极表面状态的剧烈变化程度或局部阴极的反应速率，而不是反映整体阴极的反应速率；与J_k密切相关的Ni镀层初始成核/生长机制对E^D产生显著影响。晶粒在异质基底上的成核(新相的形成)/生长过程对E^D的影响远远大于薄膜晶粒的后续同质生长过程对E^D的影响，能够加速电极表面状态剧烈变化的因素都能导致E^D值的增加。