真空电弧沉积技术中的弧源设计

讨论了真空电弧沉积中弧源设计的有关问题，如电弧运行模式、电弧极性、点火方式、电弧的约束方式以及宏观粒子抑制方式等。分析表明，分析表明，合理选择电弧运行模式和电弧极性，以满足涂料粒子蒸发与离化的要求；选择合理的弧源结构，加强对电弧的约束与烧蚀的控制，或用过滤弧源，以抑制宏观粒子对涂层的污染，是成功设计弧源的关键。     

真空电弧涂镀TiN膜中宏观颗粒的电镜分析

用扫描电镜分析了真空电弧沉积ＴｉＮ膜中宏观颗粒的形态，并对观察结果给出了理论解释。电镜分析表明，ＴｉＮ膜中ＭＰ的形态与其粒径有关，粒径大的呈椭球形，粒径小的呈圆球形；ＭＰ与膜层之间有微小孔隙。理论分析表明，形成ＭＰ的液滴在飞行中温度降低的幅度是决定其形态的主要因素。     

真空电弧涂镀TiN膜中宏观颗粒的电镜分析

用扫描电镜（ＳＥＭ）分析了真空电弧沉积ＴｉＮ膜中宏观颗粒（ＭＰ）的形态，并对观察结果给出了理论解释。电镜分析表明，ＴｉＮ膜中ＭＰ的形态与其粒径有关，粒径大的呈椭球形，粒径小的呈圆球形；ＭＰ与膜层之间有微小孔隙。理论分析表明，形成ＭＰ的液滴在飞行中温度降低的幅度是决定其形态的主要因素。     

真空电弧沉积薄膜显微硬度与工艺参数的关系

测试了各种工艺条件下真空电弧沉积 (VAD)的TiN薄膜的显微硬度 ,并研究了TiN薄膜硬度随基材、电弧电流、基片温度、氮气压力及负偏压的变化。实验结果表明 :在多数基材上 ,薄膜硬度均接近或超过 2 0GPa ,且薄膜的硬度与基材的硬度不呈比例关系 ,TiN薄膜的硬度随电流的增加有减少的趋势 ;在相当宽的温区内 ,TiN薄膜的硬度随温度上升而增大 ,而且在高温下的硬度值比低温时稳定 ,总体上 ,VAD比其它离子镀具有更宽阔的T区 ;在氮气压力为 0 .1Pa～ 1Pa的区域内 ,TiN薄膜的硬度稳定在 2 0MPa以上 ,而且适当的负偏压有利于提高TiN薄膜的硬度。     

真空电弧镀膜中金属液滴的热过程研究

本文建立了真空电弧镀膜中液滴热过程的理论模型，求解了沉积ＴｉＮ膜过程中液滴的温度与粒径变化。计算表明，液滴在飞行过程中温度和粒径不断减小；粒径较小的液滴温度降低较大，甚至可能发生凝固。计算实例能较好解释早期ＴｉＮ膜的电镜分析结果，揭示液滴在薄膜中引起两种不同微孔的机理。     

230 MHz无线负荷控制信道在配电自动化中的应用

介绍了２３０ＨＭｚ无线信道应用于配电网自动化系统,实现馈线自动化和配电变压器监测的方案,讨论了在配电网自动化中采用无线信道的可行性,并结合工程实际提出了无线电应用于电网自动化应注意的问题。     

物理气相沉积法沉积类金刚石膜时触发电路的设计

在物理气相沉积过程中，触发真空间隙是整个试验过程中最基本的一步，很多因素影响真空间隙的成功触发，本文对此加以讨论，并提供一下合适的触发电路。     

用于真空度测量的脉冲磁控放电研究

本文详细讨论了同轴场式脉冲磁控放电真空度测量的有关问题，包括磁控真空计工作过程中的放电行为、产生稳定的磁控放电所必须满足的着火条件、以及稳定放电时离子电流与压强的函数关系。分析表明，当磁场强度大于某一临界值时，磁控放电的离子电流与磁场强度无关；离子电流是压强的幂函数，且与所测真空器件电极的表面状况和几何结构有关。最后本文绘出了若干真空灭弧室真空度的测量实例。     

多边形窗口在CAD中的应用

本文提出了在AutoCAD中利用AutoLISP语言解决多边形窗口编辑的方法，可实现对图形的编辑、符号间重叠的自动切断以及为局部绘制等高线提供数据。     

长输管道工程勘察技术发展展望

中国长输管道工程勘察技术从50年代开始随着管道建设的兴起而逐渐发展起来的。随着对外技术交流的广泛深入和涉外管道工程的建设,尤其是全球高新技术的飞速发展和中国管道建设的又一个高潮的到来,对长输管道的工程勘察也提出了更高的要求。文章论述了将先进技术引入中国长输管道工程勘察行业是发展的需要,尤其是卫星遥感技术、数字摄影测量技术、激光扫描测绘技术、新型工程物探、原位测试和工程钻探技术、地质灾害评价技术、地震安全性评价技术、特殊性岩土的工程处理措施等技术的发展,将对长输管道工程勘察技术的发展和长输管道工程建设带来深刻的影响。