钢铁表面黑色转化膜处理技术

黑色转化膜技术是目前较为先进的钢铁表面处理技术 ,本文试验研究了一种新工艺 ,提出了TB值的概念 ,通过控制TB值即可控制处理液的质量 ,获得性能优良的转化膜。此工艺性能可靠 ,可操作性强 ,并可应用于激光热处理前的预处理。     

沉积温度对ZnO薄膜结构及发光性能的影响

利用Nd-YAG激光器(波长为1064nm,频率为10Hz)做光源,采用纯金属锌靶,以Si(111)为基体在有氧的气氛中通过激光烧蚀锌靶表面来制备氧化锌薄膜,研究基体温度对ZnO薄膜结构及发光性能的影响.通过XRD和AFM原子力显微镜来表征氧化锌薄膜的结构和表面形貌,其光学性质由光致发光谱来表征.结果表明:在450-550 ℃的条件下沉积的ZnO薄膜具有c-轴择优取向,500℃时c-轴取向最明显.具有c-轴取向的ZnO薄膜具有强的紫外光发射和弱的绿光发射,发光中心在518nm处的黄绿光发射主要归因于电子从导带底部到氧位错缺陷OZn能级之间的跃迁.     

Surface morphology and photoluminescence properties of ZnO thin films obtained by PLD

ZnO thin films on Si(111) substrate were deposited by laser ablation of Zn target in oxygen reactive atmosphere, Nd-YAG laser with wavelength of 1 064 nm was used as laser source. XRD and FESEM microscopy were applied to characterize the structure and surface morphology of the deposited ZnO films. The optical properties of the ZnO thin films were characterized by photoluminescence. The UV and deep level (yellow-green) light were observed from the films. The UV light is the intrinsic property and deep level light is attributed to the existence of antisite defects (Ozn). The intensity of UV and deep level light depends strongly on the surface morphology and is explained by the surface roughness of ZnO film. A strongly UV emission can be obtained from ZnO film with surface roughness in nanometer range.     

冷变形低碳马氏体钢的回火塑性

研究回火温度对15钢冷变形低碳马氏体塑性的影响.获得板条马氏体的试样经大量冷拔变形后在200～600℃进行了回火处理并测试了抗拉强度和伸长率.结果表明,随回火温度的提高拉伸强度连续降低,且伸长率在200～500℃范围内始终保持不变,当回火温度超过500℃后伸长率才开始急剧上升.而未冷变形的低碳马氏体钢在同温度范围回火时其伸长率随回火温度的提高连续增长.透射电镜分析结果表明,这种冷变形低碳马氏体的回火特性是,由于马氏体再结晶晶界上大量析出渗碳体所致.     

A SIMPLIFIED EXPRESSION OF m-n-δ RELATIONS FOR MATERIALS WITH PLASTICITY OR SUPERPLASTICITY

以Hart的微分型本构关系为基础,本文推导出了一个既包含应变硬化效应(n)又包含应变速率敏感效应(m)的m-n-δ关系式δ=[1/(1-(1-α(0))~(1/m))]~m×e~n-1当n=0时,它吻合于Ghosh和Ayres的现代分析,当m=0时,吻合于Considère的经典分析.该公式的计算结果和实验结果一致.     

电流密度对纳米锌镍合金镀层显微组织的影响

采用适当的添加剂在碱性体系中获得了晶粒度为14—33 nm的纳米锌镍合金电镀层。并应用赫尔槽试验、透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等技术研究了电流密度对镀层晶体结构的影响。结果表明,在该体系中,在电流密度为0.5—50 A/dm2得到的纳米锌镍合金镀层均为单一的γ-相(N i5Zn21)结构。随电流密度的增加,在低电流密度区镀层的晶粒度由33 nm迅速降至17 nm,在中高电流密度区晶粒度保持在14—17 nm。另外,镀层中还存在亚微米级晶粒团簇,其尺寸随电流密度的增加呈线性增大。     

超塑性变形中的孔洞长大模型

本文分析和讨论了超塑性变形中的孔洞长大模型。推导了塑性变形控制的孔洞长大模型,提出了一个改进的二阶段孔洞长大模型。借助于Rice-Tracey理论,将一维应力的孔洞长大模型推广到三维应力状态。本文给出的孔洞长大模型以及应力状态对孔洞长大的影响和一些超塑性材料的实验结果获得很好的吻合。     

玻璃表面化学镀纳米铜膜

利用化学镀铜工艺,以十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为镀液添加剂,在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米铜膜。采用FESEM、SEM和XRD等技术对铜膜表面、断面形貌及晶体结构进行了表征。结果表明,铜膜内团簇尺寸非常细小,晶粒尺寸约为15.5~28.3 nm,且存在较强的〈111〉织构。采用四探针法测量铜膜的电阻率,并讨论了电阻率随沉积时间增加而逐渐下降的原因。     

铝掺杂氧化锌薄膜的电学及光学性能

利用脉冲激光沉积法,在氧气氛下(氧分压为11 Pa)以石英玻璃为基体沉积了铝掺杂氧化锌薄膜。靶材选用锌铝合金靶,沉积过程中基体温度保持在150℃。研究了ZnO薄膜中铝的质量分数与薄膜电学性能和发光性能的关系。结果表明,掺杂铝的质量分数为1.37%时所获得的ZnO薄膜具有最小的电阻率和较强的紫外发光特性。     

分散方式对Ni-Si_3N_4纳米复合电镀层显微组织和性能的影响

采用超声波分散加机械搅拌技术在纯铜板上制备了含有纳米Si3N4颗粒的镍基纳米复合镀层,研究了分散方式对复合镀层中纳米颗粒含量、复合镀层组织结构、显微硬度和磨损性能的影响。利用扫描电镜(SEM)和X-射线衍射仪(XRD)分析了镀层表面的显微组织及相结构,通过磨损实验机检测了复合镀层的耐磨性能。结果表明,采用超声波分散技术可获得组织细密、高显微硬度的纳米复合镀层,其显微硬度最高可达996 HV,耐磨性能较未经超声波分散处理的镀层有显著提高。