压缩式气压纳米压印阻尼减振分析

纳米压印技术十几年来获得快速发展,新提出的纳米压印压缩式气压纳米压印系统存在的自身振动影响图像转移精度。采用阻尼减振系统避免施压过程中伺服马达和施压活塞位移产生的系统振动影响。基于振源和施压系统结构建立阻尼减振模型,材料物质特性分析和有限元模型仿真分析优化减振系统材料及其内部结构设计。分析结果表明蜂窝外接圆半径为0.02 m,相邻两外接圆距离外切的蜂窝结构为减振装置最优单元层,橡胶材质的3层单元层蜂窝型层叠减振结构最大衰减振幅可达87.51%,可有效减少系统振源对压印转移图形保真度的影响。     

金属诱导横向晶化非晶硅薄膜技术及新发展

金属诱导横向晶化技术(MILC)由于具有晶化温度低、晶化颗粒大等优点而获得了快速发展。阐述了金属诱导横向晶化非晶硅薄膜的晶化机理、晶化效果及影响晶化效果的主要参数,并介绍了基于多种辅助措施,如离子掺杂、电磁场辅助、微波退火、激光退火、氮硅化合物覆盖法和焦耳热升温法等方法,以优化金属诱导横向晶化非晶硅薄膜。辅助措施均有利于增强晶化效果,更易获得大面积无孪晶多晶硅薄膜,并具有较高的载流子迁移率。最后提出采用微纳金属阵列结构调控晶化能量,实现低温、高速、大晶粒直径的多晶硅薄膜制备新方法。