基于视场拼接的体视三维显示

提出了一种基于视场拼接的体视三维显示方法及系统,该系统由一个微投影机阵列和一个纵向散射屏构成。为了验证所提出的新型三维显示方法,利用58.4cm(23in)的LCD和49个焦距为100mm的菲涅耳透镜作为微投影机阵列开发出了一台实验样机,该装置可以显示具有49个横向视点的3D图像,且相邻视点的角间距为0.51°,通过对图像生成和重组算法的优化,使得显示效果得到了极大改善。     

光刻机技术现状及发展趋势

主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势。首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向。