紧凑型矢量光场发生器中4f系统的对齐方法

提出了紧凑型矢量光场发生器中4f系统在横向和纵向上的精确对齐方法,并进行了实验验证。将设计的特定相位图加载到矢量光场发生器中,通过调整4f系统中各元件之间的距离以及物面和像面到相应透镜的距离,以CCD采集光斑图像的锐利程度作为判据来实现4f系统的纵向对齐。以空间光调制器的相位控制区域作为参考坐标系,采用四象限图测量另外三个调制区域的光斑在横向上的坐标位移,通过在设计的相位图中预补偿测量到的坐标位移来实现4f系统的横向对齐。实验结果表明,所提出的4f系统对齐方法可以显著减小矢量光场发生器中所调制光斑的衍射效应。     

焊接密封元件的应力计算和强度分析简

根据“螺栓＋法兰＋焊接密封”密封结构的密封原理和结构特点,建立了密封元件-Ω形密封环的有限元计算模型;基于静力学平衡原理,推导出了一种简单、可靠的法兰密封面对Ω形密封环元件产 生的压应力的计算公式,且对计算模型的位移和载荷边界条件进行了合理的处理;应用ANSYS程序计算获得了Ω形密封环的应力分布场,得到了最大应力的数值和出现的部位;根据应力的性质和对结构强度的影响程度,给出了Ω形密封环元件的强度评价条件和评价结果。     

纳米二氧化硅改性藻多糖与壳聚糖复合膜的性能研究

为开发具有良好性能的藻多糖-壳聚糖复合膜（PSP/CH-film）,本研究将纳米SiO₂与PSP/CH-film进一步复合,制备成纳米SiO₂改性藻多糖-壳聚糖复合膜（SiO₂/PSP/CH-film）,研究不同质量含量和不同粒子直径的纳米SiO₂对SiO₂/PSP/CH-film的结构、物理性能、机械性能、抑菌性和生物降解能力的影响。结果表明:纳米SiO₂、壳聚糖及藻多糖有很好的相容性,SiO₂/PSP/CH-film表面光滑平整。添加质量含量为0.05%~0.15%,粒径为30 nm的纳米SiO₂可以改善SiO₂/PSP/CH-film的抗拉强度和抑菌性,增大了膜厚度、溶胀度及不透明度,但延缓了其生物降解性,降低了断裂伸长率。当纳米SiO₂质量含量为0.1%,粒径尺寸为30 nm时, SiO₂/PSP/CH-film展现出优良的抑菌性和抗拉强度,对延长食品货架期和提高膜的耐用性有良好效果。当纳米SiO₂质量含量一定,添加粒径为500 nm的纳米SiO₂时,仅有断裂伸长率随着粒径的增大而增高。可见,纳米SiO₂作为良好的改性材料能够很好地分散在藻多糖复合膜共混体系中,增强其网状结构,提高复合膜的综合性能。