动平衡机气体驱动研究

设计了一种动平衡机驱动装置,采用气体作为动力源驱动涡轮叶片转子,为测量提供稳定的转速,来确保动平衡测量的精度。阐明驱动原理和相应的结构,分析了流量与转速的关系,建立了流量与转速的数学模型,并对比分析了气体驱动与带圈驱动的转速波动和两种驱动在不同试重下不平衡量的误差。根据实验数据得出,在一定流量的范围内,气体驱动的转速波动更小;且在涡轮转子具有相同试重的情况下,气体驱动在一定范围内相较带圈驱动具有更高的测量精度。     

温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15sccm,溅射时间为30分钟的条件下,通过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200测量,当温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动;温度对消光系数k影响不大;当温度低于180℃薄膜的折射率变化不大,当温度达到240℃左右时薄膜的折射率明显降低.通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的晶体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑.     

介孔纳米片构筑具有微纳分级结构的ZnCo_2O_4微米花及制备高比能锂离子电池

报道了用水热法合成具有微纳分级结构的Zn Co_2O_4微米花,这种微纳分级结构在纳米尺度上是平均厚度为90nm的纳米片,并且纳米片上分布着4~12nm的介孔,借此可以极大地提高电极材料与电解液的接触面积;卷曲的纳米片进一步组装成尺度为2~4μm的具有玫瑰花状的微米花,通过微米尺度的3D结构可以防止电极材料在充放电过程中发生堆叠。研究表明这种微纳分级结构的电极材料适用于制备高比能的锂离子电池,并表现出良好的充放电能力、循环稳定性和倍率性能。如在200m A/g电流密度下经140次循环后放电容量高达935m Ah/g;在1000m A/g电流密度下经250次循环后放电容量仍达到567.4m Ah/g。     

直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响

应用直流反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,利用n&k仪对薄膜的反射率进行检测,结果表明TiO2薄膜可以作为太阳电池减反射薄膜应用,并且通过改变工艺条件可以调控薄膜的反射低谷.当总压强为2×10-1Pa、O2流量为15 sccm、靶基距为190 mm、温度为60℃的条件下制备的TiO2薄膜的减反射效果最好.     

我国农业机械化评价指标体系设置研究

农业机械化指标体系的准确设置和正确运用将有助于评价标准的统一性 ,便于使用同一的计量尺度计算和分析农业机械化的作用效果 ,评价农业机械化发展水平。本文通过对农业机械化评价指标体系的属性、功能以及量化标准的理论研究与分析 ,提出了构建我国农业机械化评价指标体系框架的初步设想     

X射线衍射法残余应力检测的误差影响因素分析

对DST-17型应力仪进行材料残余应力测量分析,通过对标准试样的测量比较,分析了ψ角个数,准直管直径及探测器种类对X射线衍射法应力检测测量误差的影响.实验结果表明:ψ角个数对测量误差波动的影响较小,随ψ角个数的增加测量误差有小幅度减小最后趋于稳定;准直管直径对测量误差有较明显的影响,1 mm直径准直管测量误差以及误差波动较大,2 mm直径准直管的测量误差和3 mm直径准直管的测量误差基本相同.SDD探测器的测量误差比线性阵列探测器的测量误差小一些,探测器的类型对误差的波动没有显著影响.     

纳米TiO2薄膜的应用机理研究

纳米TiO2薄膜是近几年才发展起来的一种新型材料.本文介绍了TiO2的三种晶型和它们的物理参数及性质,并对纳米TiO2薄膜在光催化、光降解,新型太阳电池,玻璃的防雾防露和减反射膜等方面的应用机理上做了进一步的研究.     

基体结构对Al/BN涂层性能的影响

Al/BN涂层是一种适用于450℃以下的可磨耗封严涂层,常应用于燃气轮机压气机部位的气路封严。等离子喷涂Al/BN涂层在机械加工后常出现涂层表面疏松及涂层表面粗糙度不均匀的现象,在服役过程中会出现不可预料的涂层脱落以及粘附叶片等现象,影响发动机性能和可靠性。本文针对等离子喷涂Al/BN可磨耗封严涂层开展热喷涂工艺研究,对涂层显微组织、拉伸结合强度、硬度等性能检测及评价,并着重研究基体材料结构对涂层性能的影响,结果表明相对于平板试片,带有螺纹结构试片的涂层结合强度稍高,但其Al/BN涂层与底层厚度不均匀,造成结合强度值波动较大。     

总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜，在固定电源功率、氩气流量42．6sccm、氧流量15sccm、溅射时间30min的条件下，通过控制总气压改变TiO22薄膜的光学性质。应用n＆k Analyzer 1200测量，当总气压增加时薄膜的平均反射率降低，同时反射低谷向短波方向移动，总气压对消光系数k影响不大；随着总气压的增加薄膜的折射率出现了下降的趋势，但当总气压达到一定量值时折射率的变化趋于稳定。通过XRD和SEM表征发现，随着总气压的增加TiO2的晶体结构由金红石相向锐钛矿相转变，薄膜表面的颗粒度大小由粗大变得微小细密。     

靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6 sccm,氧流量为15 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制靶基距改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200测量,当靶基距增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷先短波后长波之后再短波;靶基距对消光系数k影响较大;随着靶基距的增加薄膜的折射率出现了下降的趋势,但当靶基距达到一定的量值时折射率的变化趋于稳定.通过XRD和SEM表征发现,随着靶基距的增加TiO2的晶体结构由金红石相向锐钛矿相转变,薄膜表面的颗粒度大小由粗大变得微小细密.