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1.
<正>含煤岩系是砂岩、泥岩、泥砂岩、煤和石灰岩互层。围岩的数量和岩性的组成比例不同,对矿井地质条件的形成有直接的影响。因此,应特别注意围岩中的岩相对比的接触带。在这些带中,煤层往往受到严重的层内破坏。 以顿巴斯红军地质-工业区正在开采的l3煤层区段为例,对矿井地质条件(由下伏岩  相似文献   
2.
工艺过程自动化席卷着机器制造所有的新部门。与机器零件大量和大批生产自动化的同时,中小批生产之自动化亦日趋广泛。这个意义是相当重大的,因为在机器制造业中成批和小批生产的企业占多数。成批生产自动化的困难在于因被加工件的结构变更而经常调整设备。在许多情况下,只是当在每台机床上加工许多同一型号的零件时才能有效的利用高生产率自动化机床,但是也要引起设备的必要调整。  相似文献   
3.
提出了阴影检测技术的一种新型数字化方法,用于定量测量光学元件表面的局部面形误差量.在阴影测量装置后搭建数字图像提取和处理系统,运用傅里叶光学原理进行测量方法的数学建模.利用数字图像系统提取阴影检测图像,通过对阴影检测图像特征的分析重构出光学元件面形.仿真结果表明,运用该模型提取一抛物面镜的面形信息,在一维径向方向上可以达到1 λ(λ=632.8 nm)RMS的重构精度,可以满足光学元件加工粗抛光阶段测量的要求.  相似文献   
4.
高陡度非球面光学元件因形状特点,其毛坯成形、研磨和抛光等加工技术难度远高于传统的球面元件.其加工过程中根据不同材料和不同加工阶段分别应用化学气相沉积(CVD)精密复制方法、单点金刚石车削(DPT)、金刚石磨削、确定性微研磨(DMG)、磁流变抛光(MRF)和射流抛光等先进制造技术.分析高陡度非球面光学元件的形状特征,重点讨论高陡度非球面光学元件的加工技术及关键工艺,针对凹面抛光加工等技术难点做出工艺分析.  相似文献   
5.
MgF2材料随着其热压成型及化学气相沉积(CVD)技术的成熟,凭借其优良的红外透射及机械性能,成为最有代表性的红外光学材料.该材料制成的高陡度非球面红外光学元件的发展给制造加工技术带来众多挑战.MgF2:材料磁流变抛光性能的研究对于探索高陡度元件的凹面抛光难题具有重要意义,结合磁流变抛光技术,对MgF2材料的抛光性能展开实验研究,与K9玻璃的抛光特性做对比,分析并优化其磁流变抛光工艺参数,证实磁流变抛光对MgF2:材料的有效性,并获得了4.5μm/min的抛光效率.  相似文献   
6.
采用快速凝固法制备了Ti_(53.5)Ni_(22.8)Cu_(23.7)合金薄带.用透射电镜(TEM)、电子探针(EPMA)和电子拉伸试验机对铸态和退火态下的条带进行力学分析、组织分析及断口形貌分析.研究发现,铸态下Ti_(53.5)Ni_(22.8)Cu_(23.7)合金条带的抗拉强度和断裂应变分别为1 257 MPa和3.86%.其断口形貌有明显的脉状条纹和光滑非晶无特征区.条带经450 ℃退火10 min 和60 min后其断裂强度分别为623 MPa和850 MPa,条带的弹性模量随着应变增加从7~10 GPa增至25 GPa.退火后条带拉伸断口均体现出等轴晶粒形貌.经450 ℃,60 min退火的合金条带拉伸前后的TEM形貌特征不同,拉伸后的奥氏体晶粒中局部出现应力,诱发马氏体相变,从而形成马氏体板条.  相似文献   
7.
采用快速凝固法制备了Ti53.5Ni22.8Cu23.7合金薄带,对快速凝固合金条带在不同温度下退火热处理态的微观结构进行了X射线衍射和TEM分析.结果表明, 在450℃退火处理时,合金组织为B19、B2和条状析出物共存,条状析出物与基体呈共格关系,宽约为10~15nm;500℃退火以后形成纳米多晶B19和单晶B19的混合组织;Ti2(Ni Cu)析出物在高于550℃以上温度退火时形成,其晶粒尺寸随温度升高长大,板条宽由30~50nm变化到200~300nm;在650℃退火态下,Ti2(Ni Cu)晶粒进一步长大并影响马氏体的形貌,局部区域高密度晶界相互叠加形成莫尔条纹.  相似文献   
8.
采用快速凝固法制备了Ti53.5Ni22.8Cu23.7合金非晶薄带,研究了长时间热退火对合金条带马氏体相变行为的影响.结果表明,经450~500℃保温退火1~10h条带的相变热滞对保温时间不敏感,约为13~15℃,相变热在4~8J/g之间.随着保温时间延长,500℃退火下的条带相变峰值温度移向高温区而450℃退火下则移向低温区.条带在低于晶化温度的400℃保温10h后晶化程度显著提高,体现出明确的马氏体相变,其相变热滞为13.9℃.合金条带在400℃退火10h形成具有织构(001)的TiCu-B11析出物和Ti2Cu型析出物,在450~500℃退火形成Ti2Cu型析出物.长时间退火下的条带相变特征的差异与退火条带的织构、析出物类型及析出物改变合金基体相的化学成分有关.  相似文献   
9.
以InCl3*4H2O、SnCl4*5H2O、乙酰丙酮为原料,采用溶胶-凝胶旋涂工艺在普通玻璃基底上制备了ITO薄膜,每次旋涂之后,将样品放在260℃的烘箱中干燥15min,然后进行第二次旋涂,最后在300℃对样品进行热处理.随着退火时间的延长,XRD衍射结果表明,薄膜的结构由退火前的InOCl的简单斜方结构转变为ITO的立方铁锰矿结构.当热处理时间为22h时,薄膜的方块电阻达到最小值1500Ω/□,电阻率为6×10-2Ω·cm,而可见光范围透过率达到最大值83%.  相似文献   
10.
提高各种陶瓷材料(其中包括电瓷和高频绝缘陶瓷)烧成用耐火材料的质量是一个急待解决的课题。研制新型碳化硅耐火材料混料配方有助于改进耐火材料的质量,提高生产经济效益。  相似文献   
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