直流等离子射流法制作金刚石薄膜

近些年来人造金刚石薄膜研究巳继高温超导材科之后，成为全世界材料科学的一大热门课题。形成这样一个新高潮的原因就是金刚石薄膜具有一系列令人瞩目的特性，它强烈地吸引着全世界的科学工作者，它具有高的硬度、高的弹性模量、高的导热率(可高选铜的4倍)，高的电阻率，对波长范围很宽的光都吴有良好的透光性能，有着高的抗辐照能力及极高的饱和电子速度，使其在光学，声学振膜、刀具模具的硬涂层及高温半导体的应用上有着广阔的前景。     

电弧离子镀TiN/TiAlN复合涂层摩擦磨损性能研究

利用阴极电弧离子镀技术,在硬质合金基体上制得5层和20层TiN/TiAlN复合涂层.研究表明,这两种涂层均为典型的B1-NaCl面心立方结构,且均呈(200)择优取向.两种涂层表面光滑平整,粗糙度分别为0.32和0.11,硬度为1 470HV和2 000HV .20层复合涂层的摩擦系数和比磨损率低于5层,表明增加复合层数有利于提高涂层的耐磨损性能,涂层的磨损机理为磨粒磨损.     

仪表着陆系统下滑保护区飞机等待线位置的探讨

本文介绍了仪表着陆系统下滑保护区的范围，分析了下滑台处于跑道和滑行道中间时等待飞机可能对下滑信号的影响，结合民航相关规章规范，对此情况下飞机等待线的位置的设置进行了探讨。     

直流等离子射流CVD法合成金刚石膜的研究

采用直流等离子CVD法,以甲烷作碳源,在钼、硅、钨和石英等基体上合成了高质量的金刚石膜。其生长速率达60μm/h。合成的金刚石膜呈半透明状,膜的表面形貌随着沉积条件的变化而变化。X射线衍射结果表明,在钼、钨和硅基片上合成的金刚石膜与基体之间有一层碳化物的过渡层。     

一九九三年国际表面工程会议综述

我们受中国有色金属学会和中国有色金属总公司的派遣．参加了一九九三年三月九日在德国不莱梅市召开的国际表面工程会议(INTERNATIONAL CONFERENCE ON SURFACE ENGINEERING’93)，会后参观了一个研究所和一个公司，历时11天。下面将此行参加会议和参观访问的情况做一简要的总结，供国内同行参考。     

脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响

针对直流脉冲负偏压对PVD涂层形成过程和熔滴造成很大影响的问题,通过施加脉冲偏压有利于实现低温沉积.研究发现,沉积速率随直流脉冲负偏压峰值的提高先升高后降低,在-300V偏压时沉积速率最大;熔滴密度和直径随脉冲负偏压峰值的提高递减;随偏压升高,加大了元素溅射产额的差异,使涂层中铝元素和钛元素的含量发生变化.