碳化钨、钨及其复合物料中痕量砷的测定

对碳化钨样品中的痕量砷进行了分析测定,试样以硝酸、氢氟酸低温溶解,硫—磷混酸冒烟驱除硝酸和氢氟酸,用预还原剂还原高价砷(Ⅴ)为低价砷(Ⅲ),进行氢化物原子吸收光谱测定,测得结果与摄谱法及分光光度法结果一致。     

用原子力显微镜研究铜合金微生物的腐蚀行为

用原子力显微镜(AFM)研究了HSn70-1A、HSn70-1B和HSn70-1AB等3种铜合金在硫酸盐还原菌(SRB)菌液中的微生物腐蚀行为.结果表明,3种铜合金表面形成的生物膜形貌各不相同.HSn70-1AB合金表面生物膜的粗糙度大于其余两种合金,表明其生物膜最不均匀.去除生物膜后,3种样品的腐蚀形貌也小相同,粗糙度均有所增加,这是微生物腐蚀作用的结果.研究证实,AFM的定量分析能力是研究材料微生物腐蚀的重要手段.     

SiO2胶体探针的制备及其在表面力测定中的应用

采用一种新方法——双向三维移动平台法制备胶体探针，该方法使用两个三雏移动平台，同时将CCD与长工作距离显微镜集成，组成视频监视系统来监控探针的整个制备过程，方便了操作。利用此自组装装置制备的二氧化硅胶体探针在原子力显微镜上进行力曲线测量，将分析数据与Ducker的经典论文进行对照，得到较为理想的结果。     

流动注射分光光度法测定钴

研究了将ＰＡＮ用于流动注射（ＦＩＡ）分光光度法测定微量钴，在５６０ｎｍ处绘制标准曲线，线性范围为０～４５μｇ／ｍｌ，相关系数０．９９６，方法的相对标准偏差（ＲＳＤ）小于３％，加标回收率为９５％～１０５％，进样频率８０次／ｈ。本法简单快速，用于面粉、分子筛，铝合金测定结果令人满意。     

苯基荧光酮光度法测定硅铁合金中痕量锡

硅铁合金试样以王水—氢氟酸分解 ,硫酸冒烟驱除残余氢氟酸 ,用铍载体沉淀分离 -苯基荧光酮光度法进行痕量锡的测定 ,加标回收及标样分析结果令人满意。该法准确、可靠 ,可测定硅铁合金中低至 0.0 0 0 1 %的锡。     

微絮凝直接过滤用于印染尾水回用的可行性研究

以某典型印染企业废水尾水为研究对象,针对尾水回用的实际需求,进行了印染废水深度处理回用工艺的适用性研究.同时对微絮凝直接过滤工艺中絮凝剂、G值、微絮凝时间、滤料等条件进行了优化.试验结果表明,铝系絮凝剂中的HPAC处理效果显著,当投药量为20 mg/L,絮凝时间为2min,G值控制在100 s-1时,处理效果较好;微絮...     

AFM液池成像技术用于微絮体形态结构特性研究

利用原子力显微镜液池成像技术对不同微絮凝时间条件下不同铝形态分布的PACl与SiO2颗粒物所形成絮体的微观形貌结构特性进行了观测与表征,并通过光子相关光谱对絮体生长过程进行激光粒度分析,结合微絮凝过滤工艺进行试验验证。结果表明,新改进的液池成像技术能够较好地反映混凝过程中微絮体的形貌变化特征及不同的絮凝作用机理,从而实现对环境微观界面过程的原位观测与表征。     

挥发氢化物发生及其联用技术

挥发性氢化物发生作为一种简便、快速、高效的富集分离手段以及作为一种气体进样方式与其它测试技术手段联用已在分析化学领域得到了广泛应用。本文对氢化物发生方式、实验装置以及氢化物发生与ＡＡＳ、ＩＣＰ－ＡＥＳ、ＡＦＳ等原子光谱测试技术手段联用情况进行了评述，并对其分析应用进行了简要回顾与展望。     

硅铁合金中痕量硼的分光光度测定

建立了蒸馏分离 -姜黄素光度法测定硅铁合金中痕量硼的方法。对在氢氟酸介质中溶样时痕量硼的挥发损失及其络合保护问题进行了试验 ,结果表明 ,通过加入适量甘露醇络合保护 ,可有效地防止痕量硼在样品溶解及其溶液蒸发过程中的挥发损失 ,并成功地用于实际样品分析 ,取得了令人满意的结果。同时 ,对所拟溶样条件下所得硼的分析结果是否为全硼问题进行了进一步探讨 ,结果证实 ,所拟溶样条件下硼的测定结果为全硼。方法可用于硅铁合金等含高硅样品及需使用氢氟酸才能分解的样品中痕量硼的分析测定     

典型低温低浊水体的混凝工艺条件研究

以新疆额尔齐斯低温低浊河水为典型研究对象，通过调节絮凝反应条件和增加颗粒物浓度，并结合颗粒计数、絮体成长监测、过滤性能评价等方法，对低温低浊水的混凝工艺条件进行了研究。结果表明：絮凝慢速反应时间为20～25min，水力剪切强度G=30s^-1，其对应的GT值为（3．6～4．5）×10^4时，可以得到较好的混凝效果。此外，通过投加高岭土提高原水浊度，沉后水的过滤性能得到显著改善。