清洗后硅片表面的电子结构

介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗工艺。利用红外吸收谱、X射线光电子谱和原子力显微镜等 ,把它和标准 RCA清洗工艺的清洗效果做了比较。测试结果表明 ,经清洗过的硅片表面主要是由硅、氧和碳三种元素组成 ,它们分别以 Si-O键、C-O键和 Si-C键的形式存在。两种清洗技术都在硅片表面产生氧化硅层 ,在硅片表面都存在有机碳污染 ,但新型半导体清洗工艺产生的有机碳污染少于标准 RCA清洗。在对硅片表面的粗糙化影响方面 ,新型半导体清洗技术清洗明显优于标准 RCA清洗技术     

基于创新生态系统建构的社区更新——NICE2035未来生活原型街区的实践

介绍并分析了如何从社区支持型创新角度出发,在同济大学设计创意学院所在的老旧社区里,打造一个面向未来生活方式的,由实验室、初创企业、众创空间和实验生活场景组成的创新街区的路径和策略.在此基础上思考如何利用社区更新,为社区和校区的联动创造场所,进而推动社区成为城市创新的策源地.     

霍尼韦尔TPS控制系统故障原因分析

分散控制系统(distributed control system,DCS)是集计算机技术(computer)、显示技术(CRT)、通信技术(co mmunication)、控制技术(control)于一体的(又称4C)先进控制系统,它具有控制功能完善、操作方法简单、安全可靠性高和性能价格比好等特点,因此,该技术在工业控制方面的应用得到迅速发展。甲醇厂采用的DCS是HONEYWELL TPS(Total Plant Solution)系统,本文介绍了HONEYWELL的TPS控制系统在甲醇厂应用中的故障原因分析。