老挝南巴坦锡多金属矿田地质特征及成矿规律分析

南巴坦锡多金属矿田位于东印支板块的万象—昆嵩地块与川圹—长山华力西褶皱带结合部位,具有很好成矿条件。文章阐述了南巴坦锡多金属矿田整体地质概况、地质特征等,分析锡矿、铁(金)矿的控矿条件,发现矿田内各类金属矿体的形成相互影响,在空间分布、时间演化、物质来源等方面具有密切关系,同时受到地层、断裂构造、岩浆岩等多因素的控制,这对矿田内进一步找矿及开发有一定的参考意义。     

矿井抢险救灾呼唤快速通道钻掘

安全生产历来受到党和政府的高度重视。近年来，我国煤矿百万吨死亡率虽有所下降，但煤矿安全生产形势依然严峻，重大、特大事故尚未得到有效遏制。在目前还不能有效预计和控制事故发生的情况下，事故发生后的应急救援的有效性和及时性就显得尤为重要，但是，这方面工作的薄弱往往是造成高死亡率的重要因素。例如，2003年4月16日，湖南娄底涟源市七一煤矿发生突水事故，水、泥石封堵了安全出口，17名矿工被困井下。事故发生后矿方立即组织抢救，     

低压同步PWM控制器MIC2183及其应用

MIC2183是MICREL公司生产的高PWM同步跳跃式控制集成电路,它可将3．3V电压变换成2．5V、1．8V或者1．5V电压的应用系统。文中介绍了MIC2183的主要特点、引脚功能和内部结构．给出了MIC2183的典型应用电路和外围元件的选择方法。     

煤矿立井工作面高压特大含水层预注浆试验方案对比分析

文章在分析涌水量特征及岩体裂隙、孔隙发育之间关系基础上,根据钻孔涌水量变化特征对不同层段含水介质类型进行了划分.结合现场四种不同试验方案的注浆压力特征及其效果对比分析,最终确定"化学预注浆+分层注浆施工工艺"为最终方案,利用该方案顺利通过该含水层.并得出了高压特大含水层预注浆关键技术和方法是:根据钻孔涌水量变化特征分析确定含水层不同层段含水类型,根据不同含水类型介质选择合理的注浆材料,并采用以单孔涌水量为标准的分层注浆施工工艺.     

砂土层破壁化学注浆扩散机理模拟实验研究

根据相似理论,对徐淮地区厚松散含水层主要岩土体进行相似替代,建立破壁化学注浆实验模型.通过浆砂固结体的形态特征研究浆液的扩散机理,认为化学浆液在砂土层中的扩散机理主要为水平劈裂、垂直劈裂和挤密渗透.     

还原保护法制备纳米银粉及其表征

以十二烷基硫酸钠为分散剂,甲酸铵-氨水缓冲溶液作为还原液,采用还原保护法还原硝酸银溶液制备了球形且粒度均匀的纳米银粉.采用正交试验对温度、银离子浓度、甲酸用量、十二烷基硫酸钠用量等实验条件进行了优化,并利用SEM与XRD对所制备的产品进行了表征.结果表明,最优工艺条件为:温度为80℃,银离子浓度为50 g/L,甲酸用量为银摩尔数的4倍,十二烷基硫酸钠用量为银质量的8%,此时制得的产品平均粒径为35.4nm.     

《国外稀有金属公司和工厂》

《国外稀有金属公司和工厂》一书是根据上级安排,在全国稀有金属情报网主持下,由北京有色金属研究总院、北京有色冶金设计研究总院、广州有色金属研究院、中南矿冶学院、峨眉半导体材料研究所、宝鸡稀有金属加工研究所、贵阳铝镁设计研究院、长沙冶金设计院、新疆冶金研究所、宁夏     

OMA—Ⅲ对低气压Ar—MIP空间分布特性的光谱研究

近年来,用微波感偶氩等离子体(Ar-MIP)作为原子发射光谱分析激发源已由实验研究进入实用阶段。据报道,Ar-MIP对气体、卤素和金属元素都有很高的检测灵敏度,与其它等离子体光源比较,有气体消耗量小,微波工作功率低和对冷却条件要求低     

WiMAX未来演进趋势及与LTE-Advanced的对比

文章首先对IEEE 802.16系列宽带无线标准的演进情况做了介绍;然后,针对IEEE802.16委员会为满足国际电联IMT-Advanced要求而提出的增强标准802.16m,就其研究背景、技术需求、评估方法和系统描述等方面进行了详细分析;最后,将WiMAX的802.16m与3GPP的LTE-Advanced技术进行比较,并对二者的发展趋势做出了展望.     

基于HHT的微晶玻璃超光滑表面抛光

针对激光陀螺反射镜常用材料微晶玻璃的加工技术,介绍了一种较为成熟的超光滑表面加工方法-定偏心浸液式抛光.分析了微晶玻璃的性能和微观结构,得出实现其超光滑表面加工所必须的技术条件.系统论述了提出的超光滑表面抛光方法的基本原理及其抛光工艺过程.通过多次工艺实验,稳定地获得了埃量级的超光滑表面.最后,采用Hilbert-Huang变换(HHT)非线性平稳信号的时域分析法,通过超光滑表面粗糙度分布曲线到Hilbert谱的一系列数学变换,得出主要抛光工艺参数与表面粗糙度之间的影响关系,对实际加工工艺过程与抛光结果进行有效反馈和指导.基于HHT的超光滑表面抛光方法可以稳定地获得Ra优于0.35 nm的微晶玻璃超光滑表面,目前最好结果为Ra=0.3 nm.