阶梯栅氧结构的NLDMOS热载流子效应研究

本文对一种新型的阶梯栅氧结构的NLDMOS（Step Gate Oxide NLDMOS , SG-NLDMOS）的热载流子效应进行了研究。采用直流电压应力实验、TCAD仿真、电荷泵测试等方法,对退化现象进行了分析,并提出了退化机制。然后研究了漂移区注入剂量对器件热载流子效应的影响,结果表明低的漂移区注入剂量可以更有效地减小器件导通电阻的退化。     

42"PDP平板显示器扫描驱动IC及其生产工艺的实现

在自主研发国内BCD高压工艺的同时,设计并实现了一款用于42″数字电视PDP平板显示屏的扫描驱动芯片.该芯片及其制作工艺不仅实现了Bipolar,CMOS和高压功率DMOS器件的良好兼容（BCD工艺）,而且采用工艺与电路设计互相匹配的交互方式完成了高低电平位移电路和高压输出驱动电路及其器件的设计,有效提高了芯片的性能,减小了芯片的面积.测试结果表明该芯片功能正常,性能良好,各项技术参数基本达到国外同类产品指标.在低压5V和高压160V的情况下工作,完全满足42″PDP显示系统的需求.     

20V NLDMOS器件在关态雪崩击穿条件下的退化

对一种工作在关态雪崩击穿条件下的20V的NLDMOS器件的退化特性进行了研究。通过电流脉冲应力实验、TCAD软件仿真、以及电荷泵测试,提出了两种退化机制。第一种机制是N型漂移区中热空穴注入到氧化层中,在氧化层中形成固定正电荷;第二种机制是漂移区中界面态的增加引起的载流子迁移率下降。这两种机制都随着雪崩电流的增加而增强。     

Off-state avalanche breakdown induced degradation in 20 V NLDMOS devices

Degradation behaviors of 20 V NLDMOS operated under off-state avalanche breakdown conditions are presented.A constant current pulse stressing test is applied to the device.Two different degradation mechanisms are identified by analysis of electrical data,technology computer-aided design(TCAD) simulations and charge pumping measurements.The first mechanism is attributed to positive oxide-trapped charges in the N-type drift region,and the second one is due to decreased electron mobility upon interface stat...     

一种PDP扫描驱动芯片的HV-PMOS的研究和实现

对一种适用于106.68cm PDP扫描驱动IC的HV-PMOS器件进行了分析研究。通过使用TCAD软件对HV-PMOS进行了综合仿真,得到了器件性能最优时的结构参数及工艺参数。HV-PMOS器件及整体扫描驱动IC在杭州士兰集成电路公司完成流片。PCM(Process control module)片上的HV-PMOS击穿电压达到了185V,阈值为6.5V。整体扫描驱动芯片的击穿电压达到了180V,满足了设计要求。     

NiSe_2块体材料的制备及热电性能研究

结合机械合金化(MA)与放电等离子烧结(SPS)工艺制备了NiSe_2块体热电材料。研究了MA球磨时间和SPS烧结温度对NiSe_2热电材料的物相、显微组织以及电热传输性能的影响。结果表明:当转速为425 r/min,球磨40 h后合成了约45 nm的NiSe_2纳米粉体。NiSe_2粉体是一种直接禁带半导体,禁带宽度为2.653 eV,其块体呈n型导电特征。烧结温度为773 K时,NiSe_2块体材料在323 K获得最大功率因子101μW·m~(-1)·K~(-2),热导率为7.5 W·m~(-1)·K~(-1),最大ZT值为0.0045。     

N型LDMOS器件在关态雪崩击穿条件下的退化

针对功率开关管在未箝位电感性开关转换时会反复发生雪崩击穿,引起器件参数退化的问题,对一种20 V N型横向双扩散MOS器件(NLDMOS)在关态雪崩击穿条件下导通电阻的退化进行研究.通过恒定电流脉冲应力测试、TCAD（technology computer aided design）仿真和电荷泵测试,分析研究导通电阻退化发生的区域及退化的微观机理,并针对实验结果提出2种退化机制：(1) NLDMOS漂移区中的空穴注入效应,这种机制会在器件表面产生镜像负电荷,造成开态导通电阻Ron的减少;(2)漂移区中的表面态增加效应,这种机制会造成载流子迁移率的下降,引起Ron的增加.这2种机制都随着雪崩击穿电流的增加而增强.     

42"PDP平板显示器扫描驱动IC及其生产工艺的实现

在自主研发国内BCD高压工艺的同时,设计并实现了一款用于42"数字电视PDP平板显示屏的扫描驱动芯片.该芯片及其制作工艺不仅实现了Bipolar,CMOS和高压功率DMOS器件的良好兼容(BCD工艺),而且采用工艺与电路设计互相匹配的交互方式完成了高低电平位移电路和高压输出驱动电路及其器件的设计,有效提高了芯片的性能,减小了芯片的面积.测试结果表明该芯片功能正常,性能良好,各项技术参数基本达到国外同类产品指标.在低压5V和高压160V的情况下工作,完全满足42"PDP显示系统的需求.     

42"PDP平板显示器扫描驱动IC及其生产工艺的实现

在自主研发国内BCD高压工艺的同时,设计并实现了一款用于42"数字电视PDP平板显示屏的扫描驱动芯片.该芯片及其制作工艺不仅实现了Bipolar,CMOS和高压功率DMOS器件的良好兼容(BCD工艺),而且采用工艺与电路设计互相匹配的交互方式完成了高低电平位移电路和高压输出驱动电路及其器件的设计,有效提高了芯片的性能,减小了芯片的面积.测试结果表明该芯片功能正常,性能良好,各项技术参数基本达到国外同类产品指标.在低压5V和高压160V的情况下工作,完全满足42"PDP显示系统的需求.     

Hot-carrier-induced on-resistance degradation of step gate oxide NLDMOS

The hot-carrier-induced on-resistance degradations of step gate oxide NLDMOS(SG-NLDMOS) transistors are investigated in detail by a DC voltage stress experiment,a TCAD simulation and a charge pumping test.For different stress conditions,degradation behaviors of SG-NLDMOS transistors are analyzed and degradation mechanisms are presented.Then the effect of various doses of n-type drain drift(NDD) region implant on R_(on) degradation is investigated.Experimental results show that a lower NDD dosage can redu...