涂层导体用织构复合基带的界面及其扩散行为

复合基带是一种高强、低磁并较易形成锐利立方织构的高性能织构金属基带,能够较好地满足制备高性能涂层导体用织构基带的要求.采用放电等离子烧结方法制备了Ni5W/Ni12W/Ni5W复合基带并对其内外层界面进行了研究,发现扩散界面有利于外层合金立方织构的形成.同时,将基带在1250℃分别经60,120和180 min热处理后,基带外层合金立方织构含量均保持在98％以上.分析表明,在高温热处理阶段复合基带中界面处发生了元素互扩散行为,W元素由芯层扩散至基带表层并在晶界出形成钉扎点,抑制了晶粒的异常长大现象,使复合基带外层合金立方织构在高温热处理阶段具有较好的稳定性.     

MOD法制备Zr~(4+)掺杂的YBCO薄膜及其性能

通过在前驱溶液中掺杂乙酰丙酮锆(Zr(C5H7O2)4),成功地制备了掺杂YSZ的YBCO薄膜。该YBCO薄膜具有很好的面内和面外织构,通过SEM和TEM发现,在薄膜的表面均匀地分布着大小为10nm左右的YSZ颗粒。通过对掺杂的和未掺杂的YBCO薄膜超导性能的比较发现,经过掺杂的YBCO薄膜的临界转变温度(Tc)为90.5K,比未掺杂的YBCO薄膜(Tc=91.7K)下降了1.2K;掺杂的YBCO薄膜在自场下的临界电流密度(Jc)为3.31MA/cm2,比未掺杂YBCO薄膜的Jc(3.69MA/cm2)稍微有所降低,但是在外加磁场下,掺杂的YBCO薄膜的场性能远高于未掺杂的样品,在77K,1T磁场下的掺杂样品中,其Jc值是未掺杂的YBCO薄膜的2.5倍。     

周越亭：“最佳”无止境

各个国家、各个行业的业务流程创新及配合，不断涉及的新行业，容不得SAP中国研究院在实践最佳业务实践之路上有片刻喘息。     

“鸡蛋人”铁福礼

铁福礼的经历让人很难将他定义成一个随遇而安的人，但能坦然称自己为“鸡蛋人”，看来这种潜移默化的中国化，老铁还是很喜欢。     

张福民小步快跑

在信息化带动工业化的大趋势下,CIO 正在形成一支越来越重要的力量,不仅是针对企业信息化这样份内的事情,更表现在影响企业未来走向的重要决策依据和技术支撑上。所以,关注 CIO 实际上就是关注企业应对现时的竞争态势和对未来发展的思考与行动。对已经走在信息化前列的优秀 CIO 们的访问会给后来企业信息化提供极具操作性的方法论层面上指导。为此,作为关注我国企业信息化发展的两个新锐媒体——南方的《新电子·IT 经理人商业周刊》和北方的《ERP 世界网》联合策划了这个“对话 CIO”栏目,希望通过对杰出 CIO 的专访,与大家一起分享引领企业变革、促进我国企业信息化水平提高的宝贵经验。     

《巅峰对话》

面对经济全球化，尤其是我国加入世贸组织后，许多企业领导人都有强烈的危机感，不知如何应对世界市场的挑战，他们急需学习、借鉴成功领导人的经验来指导自己公司日常的经营管理工作。     

一个女CIO的幸福故事

陈静说自己是一个很有福气的人。读完她的故事“幸福”这个词就不再抽象 "我其实是一个很有福气的人"。当中国银河证券有限责任公司信息技术中心主任(CIO)陈静平静地说出这句     

由质量文化谈管理创新

近年来,我国产品质量有了很大的提高,名优产品不断涌现,一些产品已在国内外市场享有盛誉,但是产品质量问题还相当严重,不容忽视。在一个充满管理创新的时代,这就要求我们深究质量的管理创新。纵观世界各国,搞质量的规律大同小异,但成效差异很大,其中的奥妙和关键就在于是否建立了先进的质量文化。有什么样的质量文化,就必然反映出有什么样的质量现状。质量文化的高低影响和制约着企业甚至一个国家的经济发展。     

头痛芷痉提取物镇痛作用研究

目的 观察头痛芷痉提取物的镇痛作用,并初步探讨其作用机制.方法 通过小鼠醋酸扭体试验、大鼠硝酸甘油致偏头痛试验及右旋糖苷致家兔血淤试验进行评价.结果 头痛芷痉提取物(0.36～1.44 g/kg)连续给药7d后,可显著延长动物的痛阈值,药后15 min内扭体次数减少,镇痛率升高.头痛芷痉组(0.5～1.0 g/kg)挠头、挠腮、爬笼次数比模型对照组减少,挠头、挠腮出现时间晚于模型组,消失时间则早于模型组,且呈剂量依赖性.头痛芷痉0.448 g/kg可明显降低家兔全血黏度低切、高切和全血还原黏度低切、高切以及血浆黏度.结论 头痛芷痉提取物对醋酸溶液引起的小鼠疼痛模型和硝酸甘油引起的大鼠偏头痛模型有较强的镇痛作用;可显著改善血淤模型家兔的血液流变性,具有一定的活血化淤作用.     

热处理工艺对Ni-7W合金基带立方织构的影响

采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%, 下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带。基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示：该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒含量高达99.4%,10°以内晶界长度含量为93.6%;XRD测得的基带(111)Phi扫描和(200)摇摆曲线表明：基带的面内和面外半高宽分别是6.32°和5.4°,表明基带具有锐利的立方织构。在该基带上制备的La2Zr2O7(LZO)过渡层显示,LZO很好地外延生长了基底的织构,LZO薄膜(222)面φ扫描和(400)面摇摆曲线的半高宽值分别为7.57o°和5.73°