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深亚微米生产线中的超纯水装置 总被引：4，自引：0，他引：4
本文依据深亚微米技术的要求，结合实例，扼要介绍这种世界的超纯水装置。讨论了TOC／DO或WC／Si低于1PPb和用水点无微粒的技术以及费用等项热点问题。 相似文献
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一、引言 集成电路,尤其是大规模集成电路(LSI)这项综合性技术的发展,离不开高纯气体。去年二个接我所4KRAM产品的工厂,其管芯成品率接近和超过我所(20％),另外我们在引进生产线用3英寸大圆片第一批试投该电路也有相当可观的成品率,这当中无疑也有高纯气体的贡献。 相似文献
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半导体、集成电路是项更新换代十分迅速的产业。在六十年代中，电路的集成度每年翻一番，七十年代，平均每三年增加四倍。进入八十年代后，仍将以每二年翻一番的速度增加。伴随这种发展，要求与使用的气体品种、质量和数量也急剧增加和提高。关于国外气体的质量标准已有详细综述，本文仅限于述评近年来高纯气体方面的特点和常用工业气体的供气方式。 相似文献
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8英寸线超纯水技术的若干特点 总被引：2，自引：0，他引：2
应小于等于0．25μm8英寸fab之需，介绍了实际工程的各项优越水质参数和高可靠、易运作等特点。讨论了水的回收技术、总有机碳（TOC）减低技术和安装，配管中的零污染的可能性。 相似文献
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本文以统计性的数据为依据，阐述了超纯水水质对器件的影响，列出亚微米ＣＭＯＳ线上的水质检测。围绕现代超纯水水质参数中总有机碳这一中心环节，讨论了降低该值的关键和相关问题换解决要点。 相似文献
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超纯水精处理系统与水质评价 总被引：1，自引：0，他引：1
以0.5μm技术之需而设的一套超纯水精处理系统为实例,介绍其工艺流程及其特点,给出各项水质参数的实测数据,进而述评≤0.25μgm/8“线的水质评价项目及其限定值、分析手段和在线检测仪表。 相似文献
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以应 0 .5 μm技术之需而设的一套超纯水精处理系统为实例 ,介绍了其工艺流程及特点 ,给出各项水质参数的实测数据 ,进而评述≤ 0 .2 5 μm/ 8英寸线的水质评价项目及其限定值、分析手段和应具有的在线检测仪表。 相似文献
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超纯水精处理系统与水质评价 总被引：2，自引：0，他引：2
以应0.5um技术之需而设的一套超纯水精处理系统的实例，介绍了其工艺流程及特点，给出各项水质参数的实测数据，进而评述≤0.25um/8英寸线的水质评价项目及其限定值，分析手段和应具有的在线检测仪表。 相似文献
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阐述美国《国家半导体技术发展战略》中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求。以我国8英寸/0.18微米和12英寸生产线和相关数据与其对照.表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数巳可满足该发展要求，而在SiO2、微粒限定、检测技术以及超纯水耗量降低等方面尚有差距和问题，提出相应的解决方案，讨论了超纯水等项水资源消耗的降低途径。重申了水回收的意义，关注“功能水”和高效，省能的GDI（聚合型电去离子）装置将是有益的。 相似文献