偏振光束相干合成的理论分析

描述了偏振光束相干合成的原理和过程,分析了光束参数、相位差和振幅比变化、光束重合度以及平行度等参数对合成效率的影响,讨论了实施合成的实验参数及方法.结果表明,相对于强度变化,相位差的变化对合成效率的影响是主要的;重合度误差的影响相对较小,在实验的精度内(重合度＜2.5%)完全可以忽略;平行度使合成效率发生了最显著的降低.分析认为,大尺寸的光束合成可以有效减少平行度引起的合成损耗,光束直径为8 mm并通过等厚干涉判断光束重合时,受重合度影响的合成效率大于95%.此外,等强度合成是获得最大合成强度、简化实验的最佳合成方式.     

Gires-Tournois负色散镜误差分析

负色散镜的色散补偿性能对设计和制备的精度要求都非常高,折射率和薄膜物理厚度是其性能准确实现的必要参数.实验设计并镀制了Gires-Tournois(G-T)镜,结合电场强度分布及薄膜的群延迟色散(GDD)、扫描电镜的测量结果,从材料折射率、膜层厚度、敏感膜层的变化及界面粗糙度等主要因素对Gires-Tournois镜群延迟色散性能的影响进行了分析.研究表明:设计时采用的材料折射率要根据实际实验计算得到;群延迟色散量随着总的膜层厚度和腔的厚度增加而增加;电场强度的分布决定色散补偿能力及敏感膜层的位置,最薄的膜层不一定是最敏感的膜层,敏感膜层对沉积厚度控制精度要求非常高;薄膜的界面粗糙度和不均匀性也是误差产生的重要原因.     

高性能毫米波CSRR-SIW带通滤波器研制

基于集成无源器件(Integrated Passive Device, IPD)技术,研制了一款工作于毫米波频段的基片集成波导(Substrate Integrated Waveguide, SIW)带通滤波器。在SIW顶层金属上加载2个对称的并联互补开口谐振环(Complementary Split-Ring Resonator, CSRR),为带通滤波器提供了良好的带外抑制效果。测试结果表明,研制的带通滤波器在3dB频带(35.8～56.6 GHz)范围内的最低插入损耗为1.07 dB,回波损耗在38.1～55.8 GHz频带内小于-10 dB,带外抑制在65.5 GHz频点达到-33.6 dB。     

不同方法制备的Ta2O5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析

采用电子束蒸发(EBE)和离子柬溅射(IBS)制备了不同的Ta2O5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理.研究了制备的Ta2O5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量.结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子柬溅射的薄膜的光学性能.电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大.退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高.退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子柬蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值.