离子束溅射沉积Co纳米薄膜表面特征AFM、XPS分析

采用离子束溅射沉积法，在单晶Si基片上制备了不同厚度（1nm-100nm）的Co纳米薄膜。利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co纳米薄膜的表面进行了分析和研究。结果表明：当薄膜厚度为1nm～10nm时，沉积颗粒形态随着薄膜厚度的增加将由二维生长的细长胞状过渡到多个颗粒聚集成的球状；当膜厚继续增加，小颗粒球消失，集结成大颗粒球，颗粒球呈现三维生长状态；表面粗糙度随着膜厚（膜厚为1nm～10nm）的增大，呈现先增加后减小的趋势，在膜厚为3nm时出现极值。通过XPS全程宽扫描和窄扫描，薄膜表面的元素成分为Co：主要以金属Co和Co氧化物的形式存在。     

离子束沉积Al2O3纳米薄膜微观结构及形貌研究

采用离子束溅射方法在单晶Si(100)基片上沉积厚度为100nm的Al2O3薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱、掠入射衍射等微观分析手段,研究了薄膜的表面形貌、粗糙度、成分,及退火后微观结构的变化。研究表明:室温沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比。850℃×6h退火处理后,生成晶态的-γAl2O3,薄膜表面结晶完整,颗粒清晰可见。     

方向性超声脉冲多普勒血流信号谱分析仪的研制

本仪器用微处理器控制,用快速付立叶交换(FFT)算法,处理128点复数据需250ms。与超声脉冲多普勒血流仪配合使用,建立三个心动周期的血流声谱图象需35秒。     

可编程器件引入电工教学的必要性及可能性

编程逻辑器件(PLD),以其多方面的优势,目前已引起各个技术领域的广泛重视。以GAL器件为例,具有如下特点: (1)使用灵活,改写方便。改写次数不少于100次,而且写入的数据可保存20年以上。 (2)具有较好的通用性和可靠性。从而使电路大大简化。另外,GAL本身还具有输出状态预置及上电复位等功能,使器件自身具有100％的可测试性。 (3)可简化电路设计,降低成本。GAL的功能强,自身价格又不高,且由于GAL的每个输入、输出管脚可以根据印制电路板的布局和走线要求自行定义,从而使电路板的设计更加合理,降低电路板的制做成本。 (4)具有加密功能,提高系统的保密性这个优点是任何常规组件所无法比拟的。 从以上几方面来看,可编程器件在性能上要大大优于一般常用组件,所以它终将替代     

离子束溅射沉积Al2O3纳米薄膜AFM及XPS分析

在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1～100nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱(XPS)仪和X射线衍射仪分别对100 nm的Al2O3纳米薄膜表面结构和成分进行了表征,结果表明:薄膜厚度在1～50 nm范围时,颗粒形态随着薄膜厚度的变化逐...