首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   228篇
  免费   29篇
  国内免费   9篇
电工技术   15篇
综合类   9篇
化学工业   15篇
金属工艺   4篇
机械仪表   3篇
建筑科学   22篇
矿业工程   14篇
能源动力   12篇
轻工业   2篇
水利工程   11篇
石油天然气   7篇
武器工业   3篇
无线电   72篇
一般工业技术   48篇
冶金工业   11篇
自动化技术   18篇
  2024年   2篇
  2023年   11篇
  2022年   3篇
  2021年   2篇
  2020年   8篇
  2019年   11篇
  2018年   5篇
  2017年   4篇
  2016年   3篇
  2015年   11篇
  2014年   10篇
  2013年   19篇
  2012年   22篇
  2011年   18篇
  2010年   20篇
  2009年   9篇
  2008年   11篇
  2007年   17篇
  2006年   18篇
  2005年   21篇
  2004年   18篇
  2003年   7篇
  2002年   2篇
  2001年   1篇
  2000年   4篇
  1999年   4篇
  1998年   1篇
  1997年   2篇
  1996年   1篇
  1987年   1篇
排序方式: 共有266条查询结果,搜索用时 14 毫秒
1.
针对霍林河露天煤矿生产爆破的特点和存在的问题,通过实验室试验和现场应用相结合的方法,优选了有关参数,从而提高了爆破质量,降低了生产成本。  相似文献   
2.
企业要快速发展,技术创新是不可缺少的。主要分析了煤矿企业采矿技术创新内容,并建立了相应的技术创新体制。  相似文献   
3.
1985年10月7—11日于美国标准局(NBS)举行了第一次国际消防安全学术讨论会,这次国际学术讨论会规模很大,有世界各国290名消防专家、教授、学者参加,发表论文111篇,是国际上近年来最大一次消防学术讨论会。论文内容共分十个方面。  相似文献   
4.
5.
过渡金属碳化物和氮化物(MXene)作为二维材料家族的新成员,由于具有高导电性、高迁移率、可调结构和表面官能团丰富等优点,引起了广泛关注。该文在电子传输层和钙钛矿光吸收层之间引入Ti3C2Tx (一种典型的MXene)作为界面修饰层,用于制备高性能钙钛矿太阳能电池。结果显示,引入MXene界面修饰层的电池与参比电池相比,钙钛矿晶粒平均尺寸从0.46 μm增大至1.16 μm,开路电压、短路电流密度和填充因子均有提升,光电转换效率从15.78%提升到19.39%,证明引入MXene界面修饰层是提高钙钛矿太阳能电池性能的一种有效方法。  相似文献   
6.
水闸经过多年运行,受各种因素的影响,在使用到一定年限的时候,会出现诸多安全隐患,为了确保工程的运行安全,发挥其正常的作用,需要对其进行及时除险加固,以排除险情。本文选取了高安市谢家闸除险加固工程,对其泄洪闸的设计方案进行分析。  相似文献   
7.
设计并仿真了频率范围为DC-18GHz,功率负载为20W的微波功率薄膜电阻器,根据仿真结果,采用反应磁控溅射法制备了TaN微波功率薄膜电阻器。仿真结果表明,所设计的薄膜电阻器在DC-18GHz频率范围内,电压驻波比均小于1.2,加载20W微波功率时,薄膜电阻器表面的最高温度为108℃。实验结果表明,所制备的TaN薄膜电阻器在DC-18GHz频率范围内,电压驻波比小于1.25;加载20W直流功率96小时,电阻器的阻值变化小于2%,表面最高温度为105℃;在25-125℃温度范围内电阻器的温度电阻系数为-40ppm/℃。  相似文献   
8.
热处理对TaN薄膜电性能的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
采用直流磁控溅射法在Al2O3陶瓷基片上制备了TaN薄膜,研究了热处理温度和时间对TaN薄膜的方阻(R□)及电阻温度系数(TCR)的影响。研究发现,在热处理时间为2h的条件下,热处理温度在200℃到600℃变化时,R□从12?/□增加到24?/□,TCR从15×10-6/℃下降到-80×10-6/℃;在热处理温度为300℃的条件下,热处理时间对R□及TCR影响较小,随着热处理时间的增长,R□及TCR略有变化。  相似文献   
9.
基于多相滤波组的无“盲区”的接收机模型   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了利用多相滤波器组对宽带信号信道化的一般原理,在此基础上提出了一种基于双覆盖因子ωk1、ωk2的无"盲区"的数学接收机模型.并推导出此数学模型DFT结构.因此降低了硬件实现的复杂度,工程上更具有实用性.  相似文献   
10.
氮流量对TaN薄膜微结构及性能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用反应直流磁控溅射法在Al2O3陶瓷基片上制备TaN薄膜,研究了氮流量(N2/(N2+Ar))对TaN薄膜微结构及性能的影响。结果表明,随氮流量的增大,TaN薄膜的氮含量、电阻率、方阻以及TCR的绝对值逐渐增大,而沉积速率逐渐降低。当N2流量较低(2%~4%)时,TaN薄膜中主要含有电阻率和TCR绝对值较低的六方Ta2N相(hcp),薄膜的电阻率在344μΩ.cm到412μΩ.cm范围内,薄膜的TCR绝对值约为几十ppm/℃。当氮气流量较高(5%~6%)时,薄膜中Ta2N相消失,薄膜中主要含有TCR绝对值较大的体心四方结构(bct)的TaN和四方结构(bct)的Ta3N5相,薄膜的电阻率在940μΩ.cm到1030μΩ.cm范围内,薄膜的TCR绝对值约为几百ppm/℃。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号