抗折痕剂

克服感光层对机械压力敏感的方法,一是在卤化银乳剂上涂抗应力保护层,二是在卤化银乳剂层中加入抗折痕剂。专利文献所提出的抗折痕剂按其化学结构可分为五类。     

卤化银感光层照相压力效应

卤化银感光层除对光敏感外,对热、电子、离子、各种有机和无机化合物以及机械压力都具有感应性。各种机械压力,作用于卤化银感光层能改变其照相性能,如感光速度及显影性等。在机械压力作用下,感光层照相性能的变化称为照相压力效应。     

文献摘要

具有特定pH值和良好缓冲性能的氨基酚-二羟基苯(MQ)卤化银感光材料显影液MINNESOTA MINING＆MFG CO;94年11月2日公布;EP 622670——A1 本文主要叙述一种黑白负性卤化银感光材料冲洗加工用的新型显影液。该显影液的基本组成如下:二羟基苯类显影液(1).辅助超加合显影剂(2),防灰雾剂(3),防氧化剂(4).缓冲剂(5),软水剂(6)。最新配方组成如下:a化合物(1)和化合物(5)的分一比为1:1.17～1:3;b化合物(2)是氨基酚化合物;c影液的pH值为9.0～11.0。其加入量:化合物(1)0.04～7摩尔/升;化合物(2)0.0001～0.15摩尔/升;化合物(3)0.001～0.2 摩尔/升;化合物(4)0.001～1摩尔/升;化合物(5)0.20～1摩尔/升;化合物(6)1×10~(-4)～0.2摩尔/升;化合物(7)有机防灰雾剂 1×10~(-5)～5 ×10~(-2)摩尔/升;化合物(8)无机碱化合物(调pH值用),加水至1升。