太赫兹真空电子器件用场发射阴极技术分析

本文阐述了太赫兹真空电子器件对阴极电子源的需求条件,分析了在该器件中应用场发射阴极的可能性。介绍了当前两种主要场发射阴极,即金属薄膜场发射阴极和碳纳米管场发射阴极的国内外发展情况,指出了它们各自的优势以及实际应用中存在的障碍,并提出了相应的解决途径。试验和分析结果表明,场发射阴极具有很好的太赫兹真空电子器件应用前景。     

深化采油现场质量管理

采油现场是指具有一定开发规模和生产能力的油藏,以及油水井配套工艺设备和管理岗位构成的复杂系统。采油现场的质量管理是一项效益工程,反映管理效益的是质量管理,质量管理水平的提高,最终体现在经济运行质量和经济效益的提高上。深化采油现场的质量管理就是要完善和落实岗位质量责任,强化过程质量监督,分项目地建立群众性的管理组织,开展QC小组活动,建立质量体系,以提高质量管理水平和经济效益。     

注水开发后期提高油砂体采收率方法探讨

注水开发后期，研究油砂体剩余油分布规律，实施油砂体综合治理，完善油砂体注采关系是提高最终采收率的重要途径之一。按照含油面积、采出程度及生产动态特点将油砂体分为3类。根据每类砂体的不同特点，采取相应的治理措施，取得了较好效果，累积增油18．5kt，增加水驱储量1．08Mt。注水开发后期提高油砂体采收率必须以剩余油的分析研究为指导，以井网对剩余可采储量的控制为前提，以油水井措施的联动为手段，从而达到提高最终采收率的目的。     

化学吞吐工艺在孤东油田四区西部稠油块的应用

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一种新型可重复利用荫罩掩膜技术

利用化学气相沉积、光刻和反应离子刻蚀等微细加工技术,可以制作柔性、低成本、结实耐用、生物科技和半导体技术兼容、可重复使用的聚对二甲苯-C荫罩掩膜。利用这种透明的惰性材料掩膜,可以制作出传统平面微加工技术难以实现的曲面微图形,同时在多次使用场合,可以实现其它柔性荫罩掩膜材料难以达到的微米级特征尺寸,并能保持很好的图形复制特性。     

氢气退火在UV-LIGA制作折叠波导慢波结构中的影响

详细研究了利用紫外-光刻、电铸(UV-LIGA)技术制作全铜结构折叠波导各个阶段中氢气退火工艺对实验的影响。氢气退火工艺主要用于两个阶段：第一阶段为对铜基板的烧氢处理(前期),第二阶段为实现金属结构后对基板和铸层整体的烧氢处理(后期)。实验发现,前期氢气退火除清洁基板、降低内应力外,还能发生晶界迁移,使晶粒在高温下生长趋于稳定,利于生长与之结合更紧密的电铸层。但该处理需提前至基板抛光之前,否则会导致平整度变差。后期氢气退火除检测全铜结构能否经受高温焊接外,还有助于进一步去除光刻胶,并促进基板和铸层在高温下生长为结合紧密的共同体。     

孤东油田八区西部提高聚合物驱效果分析

根据孤东油田八区西部注聚区的地质及开采情况,分析了该区聚合物驱前期不见效的原因,研究了该区剩余油分布规律,提出了下步以层间,层内调整为主的挖潜,结合孤东油田其他区块研究了注聚区合理提液时机,制定了合理提液原则,实施后注聚区西部日产油田48t增至214t,见到了良好的注聚效果。     

Spindt阴极制作中剥离层的研究

在Spindt场发射阴极制作工艺流程中,剥离层对于形成良好的发射尖锥形状至关重要,同时它也是实现阴极阵列中尖锥均匀性的关键因素.本文研究了几种常用的剥离层材料包括金属铜,Al2O3以及水溶性的NaCl和NA2CO3.实验表明NaCl和Na2CO3用作剥离层,可以被去离子水迅速、容易地去除,并同时实现很好的腐蚀选择性.但用这些水溶性材料得到的发射尖锥形状不很规则且表面粗糙,由此也会带来整个阴极阵列上尖锥的不均匀性.使用Al2O3作为剥离层则较为理想,可以得到光滑的栅极收口和很好的尖锥阵列.但传统用来腐蚀Al2O3的热H3PO4,对于加热制作的Al2O3剥离层腐蚀较为困难.尝试了使用基于NaOH的腐蚀液来剥离加热Al2O3层,通过严格的工艺参数控制,如腐蚀液浓度和刻蚀时间,可以制作出质量较好尖锥发射体阵列.     

同轴双栅极SPINDT阴极的模拟与分析

描述了双栅极场致发射阴极的电子束聚焦问题.通过IESLORENTZ-2D 对单栅极单个SPINDT微尖的模拟,表明模拟与实验数据符合得很好.对带有同轴聚焦电极的单个SPINDT微尖也进行了模拟,并且分析了影响电子束聚焦的各种几何和电参数.结果表明,为了满足设计标准,应当同时考虑聚焦效果和发射特性.     

场致发射阵列阴极电子枪的设计及模拟研究

讨论了微波管用电子枪的一般参数和要求，对于在微波管中应用场发射阵列阴极电子枪的情况作了分析，表明其中存在的主要问题是电子注散焦。通过比较场发射电子注聚焦的几种方法，利用传统电子枪整体聚焦的思想，初步设计了一个场发射阵列阴极电子枪模型，它包括场致发射阵列阴极，一个Whelnelt电极，一个聚焦电极和一个阳极。通过利用Mafia软件对电子注轨迹的模拟计算，对电子枪的聚焦部分进行了改进。