DZP型低压综合配电及无功补偿装置的研制

为使低压配电装置美观、功能齐全、方便安装与维护,利用有效的空间,创造更多的价值,为此,我们研制出一种集主受、馈出、计量、无功补偿功能为一体化的低压多功能综合配电装置,以满足智能电网的发展需求。     

沈阳油田砂岩油藏压裂防砂技术应用研究

针对沈阳油田砂岩油藏特点,在应用压裂防砂技术过程中形成以防砂为主的大井段多层人工井壁一压裂防砂技术和以改造增产为主的压裂防砂改造技术,归纳了压裂防砂技术体系和压裂防砂技术应用体系,认为人工井壁一压裂防砂措施进入现场应用衰退期,压裂防砂改造技术进入现场应用成长期,脱砂压裂防砂技术进入技术储备期.     

大井段多油层防砂工艺的优化

沈阳油田油井属于后期防砂工艺,从保护油层和套管角度出发,从填砂固砂手段入手,应用人工井壁防砂工艺防砂,在此基础上,研究应用与人工井壁防砂复合的解堵防砂和压裂防砂工艺,在有效防砂的同时解除近井堵塞,找到了一条即防砂又高产的途径,验证了人工井壁能够有效防治粉细砂.     

铈盐和硅烷改性阳极氧化LY12铝合金的耐蚀性能

采用硫酸阳极氧化法在LY12铝合金表面制备了阳极氧化膜,然后以γ–环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)/正硅酸乙酯(TEOS)杂化溶胶封闭,并在封闭过程中引入Ce3+作为缓蚀剂。对吸附Ce3+的铝合金阳极氧化膜进行了X射线光电子能谱(XPS)分析。通过极化曲线与电化学阻抗谱(EIS)研究了铈盐和硅烷杂化溶胶改性的阳极氧化铝合金电极在25°C、3.5%(质量分数)NaCl溶液中的耐蚀长效性。结果表明,硅烷杂化溶胶封闭方法极大提高了阳极氧化膜的耐长期腐蚀性能。Ce3+在硅烷杂化溶胶封闭的阳极氧化膜体系中的引入方式不同导致其耐蚀长效性具有显著差异。吸附Ce3+后再经硅烷杂化溶胶封闭的阳极氧化膜电极的耐蚀性显著高于铈盐掺杂硅烷杂化溶胶封闭的阳极氧化膜。     

Kapton/Al薄膜的电子辐照损伤

使用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了电子辐照的地面模拟实验,研究了Kapton薄膜的表面形貌、光学性能变化和辐照损伤机制.结果表明,辐照使Kapton薄膜表面发生了明显的充放电效应;在500-1000 nm波长区间光谱反射系数明显降低,太阳吸收比随着电子辐照剂量的增加而增高;在辐照过程中Kapton薄膜发生酰亚胺基团的破坏、羰基和桥氧键的断裂以及O在N 逸出空位处的替换,并有较复杂的新结构生成.     

优化操作 挖掘潜力 实现线性装置节能降耗

文中通过对大庆石化公司线性装置生产现状进行分析，制订出节能节水优化方案并加以实施，通过挖掘装置节约资源潜力，以最低的投入创造最大的效益。     

脉宽调制液压数字比例溢流阀实验研究

论述液压数字比例溢流阀国内外发展动态及脉宽调制液压数字溢流阀的工作原理、特点及实验结果.实验结论认为该阀工业领域内有广阔的应用前景.     

一种电容器断路器与三工位隔离开关装置的研发

一种电容器断路器与三工位隔离开关装置,断路器可以单相操作,满足单相电容器组投入时与该相电压过零点同步;切除电容器组时与该相电流过零点同步,消除电容器组投切时产生的过电压,降低涌流,提高电容器的使用寿命;三工位隔离开关设计成导柱移动式封闭结构,动作准确,绝缘可靠性高。     

铈盐掺杂GPTMS/TEOS硅烷杂化膜腐蚀电化学行为随时间的变化

以γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)和正硅酸乙酯(TEOS)为前躯体,采用溶胶-凝胶法在LY12铝合金基体表面制备了铈盐Ce(NO3)3掺杂有机-无机杂化膜。通过极化曲线与电化学阻抗谱(EIS)研究铈盐掺杂硅烷杂化膜在3.5%(质量分数)NaCl溶液中耐蚀性能随浸泡时间的变化。结果表明,硅烷杂化膜的极化阻抗值随浸泡时间延长而缓慢降低,但浸泡183 h后仍显著高于金属基体;铝合金点蚀电位在浸泡期间呈现先降低后升高再降低的变化。在浸泡初期,EIS曲线的高频容抗行为显著。从69 h至260 h浸泡试验结束,低频阻抗值保持基本稳定。上述变化与膜中掺杂的铈盐具有自修复性质密切相关。     

The electrochemical study of corrosion resistance of silane-based hybrid films doped with rare earth salt on aluminum alloy

采用溶胶-凝胶法, 以γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(γ-GPTMS)和正硅酸乙酯 (TEOS)为前驱体, 在2A12铝合金表面制备了稀土铈盐(Ce(NO3)3)掺杂的有机－无机杂化膜, 研究了铈盐掺杂浓度和涂层固化温度等工艺条件. 通过极化曲线和电化学阻抗谱(EIS), 比较了掺杂与未掺杂有机－无机硅烷杂化膜、铬酸盐转化膜和RE转化膜在3.5%NaCl (质量分数)溶液中的耐腐蚀性能. 测试结果均表明, 铈盐掺杂硅烷杂化膜的极化电阻比掺杂前增大了约13倍,并显著高于铬酸盐转化膜和RE转化膜.