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目的 提高镁合金基体的耐蚀性能.方法 采用微弧氧化工艺对镁合金进行预处理,再通过自组装技术处理,在镁合金表面制备微弧氧化/十六烷基三甲氧基硅烷自组装复合膜层.通过SEM、EDS对复合膜的微观组织结构进行分析,并通过XPS、拉曼光谱分析了复合膜的表面成分,利用电化学阻抗谱、极化曲线、盐雾实验和浸泡实验检测了复合膜层的耐腐蚀性能.结果 复合膜均匀覆盖在镁合金表面,且复合膜较为光滑,主要含有C、O、F、Si等元素.经过自组装处理后,膜层从亲水性转为疏水性,接触角达到145.07°.经电化学性能测试,复合膜的Rct值能达到2.242×106?·cm2,与微弧氧化膜相比,增大了2个数量级;此外,复合膜的腐蚀电流密度为1.314×10-8 A/cm2,与微弧氧化膜相比也降低了2个数量级,具有较好的耐腐蚀性.浸泡120 h后,复合膜的腐蚀电流密度仍有1.061×10-5 A/cm2,盐雾实验进行120 h也没有出现明显的腐蚀现象.结论 自组装技术明显提高了镁合金基体的耐蚀性能,微弧氧化膜在一定程度上增强了自组装膜层对基材的粘附力.由于复合膜的疏水性使得水滴在膜层表面停留的时间减少,所以膜层的耐蚀性会随着疏水性增大而大大提高. 相似文献
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铜离子印迹聚合物的制备及吸附性能 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了铜金属离子印迹聚合物的制备方法,考察了该印迹聚合物的吸附性能.以铜离子为模板,以4-乙烯基吡啶为功能单体,偶氮二异丁腈为引发剂,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂进行聚合,聚合产物用盐酸进行洗脱,得到铜离子印迹聚合物.利用红外光谱仪、差示扫描量热仪等,对铜金属离子印迹聚合物的结构进行表征.采用静态和动态法分析研究铜金属离子印迹聚合物的吸附性能和选择性.结果表明,与非印迹聚合物吸附剂相比,铜离子印迹聚合物对铜离子具有较好的选择性识别能力,吸附选择性系数较高,可望在分离富集领域获得实际应用. 相似文献
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为了研究三乙醇胺在氯化钠溶液中对镁合金的缓蚀效果,运用电化学工作站和扫描电子显微镜测试分析了镁合金在含三乙醇胺的氯化钠溶液中的微分电容曲线、表面覆盖度、循环极化曲线、电化学阻抗谱和表面微观形貌。结果表明:在氯化钠溶液中添加3 m L/L三乙醇胺时,镁合金与溶液界面的微分电容值减小,微分电容曲线出现电位平台,零电荷电位正移;随着阳极极化加强,三乙醇胺在镁合金表面覆盖度下降,产生阳极脱附现象;随着浸泡时间延长,镁合金表面出现裂缝,并逐渐发展为腐蚀孔,腐蚀产物分布在蚀孔周边,且易脱落。 相似文献
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为了研究具有不同官能团的自组装膜层微观结构对铝合金表面耐腐蚀性能的影响,通过自组装膜技术在铝合金表面分别制备月桂酸、双(γ-三乙氧基硅基丙基)四硫化物(BTESPT)、癸二酸铵这 3 种自组装膜层。 采用 SEM、XRD、 FT-IR 对自组装膜层进行结构表征,并分别对 3 种膜层的电化学性能和耐腐蚀性能进行研究。 结果表明,3 种分子都在铝合金表面成膜,但 BTESPT 自组装膜最为致密。 通过交流阻抗测试和极化曲线测试,3 种膜层的阻抗值分别达到了 3. 3×107 、1. 1×1015 和 6. 8×107 Ω·cm2 ,腐蚀电流密度分别为 4. 5×10-7 、5. 6×10-8 和 9. 6×10-8 A/ cm2 ,通过拟合电路分析膜层耐腐蚀机理。 盐雾试验结果显示,BTESPT 自组装膜层在第 16 天才产生腐蚀点,要优于另外 2 种自组装膜层。 分析推导认为 BTESPT 自组装膜的微观致密结构为膜层具有更优的耐腐蚀性能提供了保证。 相似文献
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中国营造学社学术成就与历史贡献述评 总被引:5,自引:0,他引:5
回溯历史,追寻先贤足迹,系统地梳理中国营造学社学术成就和历史贡献,彰显其对于中国建筑史学、文化遗产保护事业奠基性、开创性的深远影响,以史为鉴,观照中国文化遗产保护事业的兴替历程,为中国文化遗产保护实践与理论探索,及其未来发展,提供有益的借鉴与参考。 相似文献
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2006年初,数篇已经散佚70余年的论文原稿在中国文物研究所被发现。这些极其珍贵的手稿皆系中国营造学社梁思成、刘敦桢二位先生于1936年前后撰著,应是当年中国营造学社准备刊行的学术专辑《古建筑调查报告专刊·佛塔》的主要内容。今年9月19日。适值刘敦桢先生110周年华诞之纪念。作为最先亲睹刘敦桢先生七十年前未刊手稿的晚辈末学之一,本文即是笔者研读其中《河北定县开元寺塔》一文的读韦笔记,不揣浅陋,善昧为之,谨以此表达对中国建筑史学研究先贤前辈深切的怀念与无上的景仰。 相似文献
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