Ag/Cu离子双注入ABS树脂抗菌性能研究

采用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源将银离子和铜离子注入丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面,并通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)和拉曼光谱(Raman)对该材料进行了表征,同时测试了改性后ABS树脂的抗菌性能。结果表明:离子注入后材料表面被侵蚀,且随着能量的增加粗糙程度变大;离子轰击使材料表面的化学键断裂、易挥发物质释出,并出现富碳层;离子注入后以氧化物的形式存在于材料表面;ABS树脂表面注入银离子和铜离子后具有优良的抗菌效果。     

电动工具阶梯轴圆角过渡半径的优化设计

通过ANSYS软件建立不同直径和过渡圆角半径的阶梯轴三维模型,计算阶梯轴模型在纯扭转条件下的应力、应变;找出每个阶梯轴的最大应力及其存在的位置.根据计算结果,绘制最大应力随过渡圆角半径变化的曲线和随过渡圆角半径与小径比值的变化曲线,分析阶梯轴结构对应力集中程度的影响.     

深振荡磁控溅射制备柔性硬质纳米涂层的研究进展

柔性硬质纳米涂层具有高致密性、高表面完整性、高硬度、高韧性和高裂纹抵抗力特性,是新一代高性能纳米涂层的一个重要发展方向,但其制备难度高,难以利用传统涂层制备技术实现。深振荡磁控溅射(deeposcillation magnetron sputtering, DOMS)技术是一种新型的高功率脉冲磁控溅射技术,现已成为国际涂层研究领域的热点。DOMS技术通过一系列调制的电压微脉冲振荡波形,能够实现完全消除电弧放电和靶材近全离化,获得高密度、低离子能量和高束流密度的等离子体,能制备出具有低缺陷、高表面完整性、高致密性的高性能纳米涂层,并且对纳米涂层的成分、结构和性能实现"剪裁化"的可控制备。本文综述了柔性硬质纳米涂层的特征以及DOMS制备柔性硬质纳米涂层的最新进展。     

银离子注入ABS树脂抗菌性能研究

用MEVVA源将银离子注入ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene)树脂表面,研究在注入剂量为1.0×1016ions/cm2、注入能量由5 keV到30 keV材料的抗菌性。通过X射线光电子能谱(XPS)及拉曼(Raman)光谱对样品表面进行了表征,并测试样品的疏水性和抗菌性。结果表明:载能离子导致ABS树脂表面部分化学键断裂,并出现失氢、富碳,而银以离子形式存在其氧化物中;材料表面的接触角变大,由亲水性材料变为疏水性材料;银离子注入后材料具有良好的抗菌性能,抗菌效果随着离子注入能量的增加呈现降低趋势。     

银离子注入与银/铜离子双注入ABS树脂抗菌性能研究

用金属蒸汽真空弧源(MEVVA)分别对丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)树脂进行银离子注入与银铜离子双注入,加速电压均为30 kV,注入剂量均为1×1016cm-2。通过抗菌实验表明,银离子注入样品与银铜离子双注入样品均表现出优良的抗菌性能,但银铜离子双注入样品的抗菌性能更加优异。对样品分别进行扫描电子显微镜、拉曼光谱与电子能谱表征,结果表明,离子注入后表面变粗糙,出现无序碳层并伴有富氧,银与铜以离子形式存在。     

磁过滤阴极弧法制备CrCN薄膜结构与组分研究

目的通过磁过滤阴极弧沉积技术制备质量优异的CrCN涂层。研究乙炔/氮气混合气体流量以及基底偏压对薄膜结构和成分的影响。方法采用磁过滤真空阴极弧沉积技术,在20~100 m L/min变化的乙炔/氮气混合气体流量参数下沉积CrCN复合薄膜。通过X射线衍射、场发射电子显微镜、扫描探针显微镜、X射线光电子能谱仪、透射电镜,对薄膜的物相结构和形貌进行分析。结果随着气体流量的增加,CrCN复合薄膜的晶粒逐渐减小最终向非晶化转变。TEM结果表明,在CrCN复合薄膜中有大量几纳米到十几纳米的纳米晶浸没在非晶成分中。SPM表明,随着基底偏压由–200 V增大到–150 V,CrCN薄膜的表面粗糙度Sa由0.345 nm上升至4.38 nm。XPS、TEM和XRD数据表明,薄膜中Cr元素主要以单质Cr、Cr N以及Cr3C2的形式存在。结论采用磁过滤真空阴极弧沉积技术制备的CrCN复合薄膜具有纳米晶-非晶镶嵌结构。该方法沉积的CrCN薄膜的表面粗糙度与基底负偏压有关。混合气体的流量变化对薄膜组分的变化几乎无影响。