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采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s的快速热退火。为了比较,也进行了880℃,30min的常规退火。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、光谱仪和霍尔效应仪分析了样品的晶体结构、表面形貌、光吸收特性和电学性能。结果表明:Fe/Si多层膜法合成的样品均为β-FeSi2相且在(220)/(202)方向择优生长;经快速热退火合成的β-FeSi2薄膜光学带隙约为0.9 eV。[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜经快速热退火合成的β-FeSi2薄膜表面粗糙度最小,该薄膜样品为p型导电,载流子浓度为4.1×1017cm-3,迁移率为48cm2/V.s。 相似文献
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采用射频磁控溅射法和真空热蒸发沉积法在FTO衬底上制备了金属酞菁/氧化锌复合膜(M-Pc/ZnO),并对复合膜的光吸收和光电性能进行了研究.实验发现,复合膜的紫外-可见光吸收谱中,金属酞菁的Q带吸收峰明显红移并且透过率有所变化,说明氧化锌和金属酞菁之间存在很强的相互作用.Ag/M-Pc/ZnO/Fro结构在1000 W光照下具有明显的光伏效应,开路电压(Voc)约为0.7V,短路电流(Isc)为2.6×10-5A左右. 相似文献
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采用机械合金化结合冷等静压的方法制备了CoSb3和Co3.5Ni0.5Sb12化合物,并测量了其热电性能。利用基于密度泛函理论赝势平面波的方法对Ni掺杂前后的CoSb3的能带结构和态密度进行了计算,实验和理论计算结果表明:CoSb3的费密面位于导带和价带之间,其电阻率随温度的升高而降低,为非简并半导体;Co3.5Ni0.5Sb12的费密面进入导带,其电阻率随温度的升高而增大,为n型简并半导体;本实验条件下,Co3.5Ni0.5Sb12化合物的功率因子在550 K时出现最大值2 292.92μW/(m.K2),是未掺杂CoSb3化合物最大值的12倍。 相似文献
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