氧化钨物理特征的测量

对铵钨青铜（ATB）、氢钨青铜（HTB），紫色氧化钨（TVO）和蓝色氧化钨（TBO）四种氧化钨粉的氮气吸附/脱附等温线数据的分析。可以得出其表面积，微孔体积，微孔分布，中孔体积，平均孔径和分数维数。吸附/脱附等温线数据的分析表明，TVO粉末具有最大的中孔体积，最小的微孔体积，最窄的孔径分布，最小的分数维数和最大的平均孔径，其有利于氢还原制取超细钨粉，而不利于掺杂工艺，HTB粉末具有最大的微孔体积，最宽的孔径分布，最高的分数维数和最小的平均孔径，对于掺杂工艺来说是有利的，ATB和ABO的上述参数界于TVO和HTB之间。结果表明，利用吸附/脱附等温线来研究氧化物的物理特征是一个很好的方法；在氧化钨用于氢还原工艺和掺杂工艺之前必须研究其物理特征。     

蓝色氧化钨,金属钨粉和碳化钨粉

1蓝色氧化钨、金属钨粉和碳化钨粉的特性1.1蓝色氧化钨工业用蓝色氧化钨（TBO）是一种由多种钨化合物组成的粉末状混合物。一般是由铵钨青铜、氢钨青铜、三氧化钨、β-氧化物（WO2.9）和γ-氧化钨（WO2.72）混合组成，其表观颜色随氧指数（O／W）从2．72～3．0紫色向黄色连续变化。它正在逐步取代传统的钨酸和黄色WO3而成为一种重要的钨中间化合物。1.2金属钨粉用还原法获得的钨粉粒度为0．3～30μm．其颜色随粒度粗细而改变，粉末颗粒越细，颜色越黑。粗粒度的钨粉呈灰色并具有金属光泽一亮点；中等粒度钨粉呈灰黑色；超细钨纷呈深黑…     

磁控溅射WO3薄膜特性研究

用磁控溅射法制成WO3薄膜,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3薄膜的性能.利用XRD分析了样品的粒径大小,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响.结果表明,薄膜中WO3晶粒的平均尺寸为17 nm,该传感器对NOx气体有非常好的灵敏度和选择性,对体积分数为1×10-5的NOx气体灵敏度高于50倍,而对其他干扰气体的灵敏度小于2倍.     

低工作温度的氧化钨气敏材料

本文报道了一种可以在１００℃左右工作的氢化钨气敏材料，它对氢气和一氧化氮有很高的灵敏度和良好的选择性，并可对空气中的一氧化氮进行探测     

电致变色器件中WO3薄膜厚度的选择

WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。     

稀土镧、钇对蓝色氧化钨氢还原的影响

借助于ＳＥＭ、Ｘ射线衍射技术及ＩＰＰ粉末粒度仪等系统地研究了稀土镧、钇对蓝色氧化钨（ＢＯ）氢还原的影响。结果表明：稀土元素镧、钇在蓝色氧化钨的还原钨粉中以氧化物及钨酸盐形式存在；还原后所得的钨粉颗粒大多为规则形状的多面体；稀土镧、钇和铝相似，强烈地抑制ＢＯ氢还原钨粉颗粒的长大，而且钇的作用更为显著。     

氧化钨纳米颗粒和纳米线的选择合成及光致发光研究

采用无机盐辅助水热法选择调控合成了WO3纳米颗粒和纳米线.通过SEM,TEM,EDX和XRD等手段对产物进行了表征.研究了形貌和尺寸对WO3的光致发光性能的影响,并探讨了形貌和尺寸对WO3光致发光性能影响的机制.     

X射线衍射K值法测定蓝色氧化钨中的WO_3、WO_（2．72）和WO_（2．90）

Ｘ射线衍射Ｋ值法测定蓝色氧化钨中的ＷＯ_３、ＷＯ_（２．７２）和ＷＯ_（２．９０）潘世伟（上海进出口商品检验局２０００ｇ２）蓝色氧化钨又名β－氧化钨（简称蓝钨），化学组分为ＷＯ２．９０，属四方晶系。由于蓝钨具比表面大、掺杂均匀、比ＷＯ３更易被还原、可适?..