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1.
本文概述了离子注入过程中污染产生的原因和防止污染的措施,特别强调了对微粒污染和金属污染的防护以满足ULSI加工对离子注入的要求。 相似文献
2.
用二次离子质谱对As+注入Si1-xGex的快速退火行为进行了研究,Si1-xGex样品中Ge组分分别为x=0.09,0.27和0.43,As注入剂量为2×10^16cm^-2,注放能量为100keV,快速退火温度分别为950℃和1050℃,时间均为18秒,实验结果表明,Si2-xGex样品,As浓度分布呈组分密切相关,Ge组分越大,As扩散越快,对于Ge组分较大的Si1-xGex样吕,Asdispla 相似文献
3.
NMOS器件两次沟道注入杂质分布和阈电压计算 总被引:1,自引:1,他引:0
分别考虑了深浅两次沟道区注入杂质在氧化扩散过程中对表面浓度的贡献。对两次注入杂质的扩散分别提取了扩散系数的氧化增强系数、氧化衰减系数和有效杂地系数,给出了表面浓度与工艺参数之间的模拟关系式,以峰值浓度为强反型条件计算了开启电压,文章还给出了开启电压、氧化条件、不同注入组合之间的关系式。 相似文献
4.
5.
LIZhong XINHua-mei WANGQiang LIYu-guo LIHui-qi 《半导体光子学与技术》2004,10(1):38-40
Blue luminescence at about 431nm is obtained from epitaxial silicon after C^ implantation,annealing in hydrogen ambience and chemical etching sequentially. When annealed in nitrogen ambience and etched accordingly, there is a much narrower peak at about 430nm. During C^ implantation,C=O compounds are introduced into and embedded in the surface of nanometer Si formed during annealing,at last, nanometer silicon with embedded structure is formed,which contributes to the blue emission. 相似文献
6.
7.
用XPS研究了注入银离子的BiSrCaCuO玻璃的表面结构,讨论了离子注入对玻璃表面晶体生长的影响。 相似文献
8.
首次采用叠加能量离子注入技术制备C^+注入SiO2薄膜样品,室温下观测到很强的蓝光发射。通过测量样品的光致发光谱对退火条件的依赖关系,研究了样品的发光特性。对发光机制进行了初步探讨。 相似文献
9.
10.