投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析

以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成,详细叙述了调平调焦系统的运行步骤,并结合多年的投影光刻机维修经验总结了调平调焦系统的常见故障,给出了处理故障的方法和步骤。     

《电子工业专用设备》第43卷(2014)目次总汇编

正~~     

投影光刻机中PDP-11主控制计算机系统的替换

介绍了针对早期的投影光刻机存在PDP-11计算机速度慢,控制系统难操作的问题,利用普通PC机通过GPIB卡替换了PDP-11计算机,使用VB语言编写的程序替换了主控制系统程序。     

光电所紫外深度光刻机获半导体创新产品和技术奖

近日,中国电子专用设备工业协会、中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会和《中国电子报》联合举办了2007年度中国半导体创新产品和技术奖评选。中科院光电所研发的URE-2000系列紫外深度光刻机在评选中脱颖而出,获得殊荣。     

Ricmar联手SMEE开拓中国半导体市场

奥地利Ricmar集团是一家综合半导体制造设备与服务供应商,拥有自动化系统、真空镀膜系统等产品。作为国家光刻设备工程技术研究中心依托单位,上海微电子装备有限公司(SMEE)主要从事用于IC制造的中高端光刻机等关键设备开发,     

接近式光刻机间隙分离机构设计

为满足接近式光刻设备中基片和掩模间隙分离的要求,设计了微动分离间隙机构.该结构由螺旋差动机构和杠杆机构组成.采用两同轴且旋向相同,螺距分别为0.7mm和0.8mm的差动螺旋副实现2μm的微动分辨力,进一步经1:2杠杆位移缩小机构实现1μm的间隙分离微调分辨力.试验表明,该机构达到了设计要求,满足了工作需要.     

用于投影光刻机掩模自动对准的锁相干涉技术

<正> 本文叙述了用于投影光刻机中的一种掩模对准技术。在片子与掩模的对准中,通过一种锁相干涉法确定其偏移量。此方法采用的对准图形是一种交叉的栅格,用氦氖激光束照明。经过衍射和干涉后得到了一种谐波强度信号,信号的相位表示了掩模与片子的相对位移。用一个电流计扫描仪驱动一块可倾斜的玻璃片来实现相位调制和精密对准。包括套准和精密对准在内总的对准操作用一个PC单元控制,具有毫微米的套准精度和低于0.3秒的对准周期。此方法特别适用于缩小步进投影光刻机中的逐场对准。最后讨论了其理论研究与试验的结果。     

武汉新芯:定位存储器制造,两年后或推3DNAND

正武汉新芯集成电路制造公司(XMC)2006成立,2012年底起独立经营,是国有制企业。为了区别于本土的制造巨头SMIC(中芯国际)和华力微电子(HLMC)等,XMC将立足存储器制造。近日,武汉新芯董事长王继增告诉笔者。     

高亮度LED步进投影光刻机及其量产应用

图形化蓝宝石衬底(PSS)工艺在改善GaN晶体外延生长质量以及提升LED器件发光提取效率方面作用显著,并被LED行业大量采用。针对高亮度LED量产线大量采用二手投影光刻机制备PSS衬底所面临的焦深不足、垂向控制容易离焦,以及运动台拼接精度不足等问题导致的PSS良率仅有70%~80%的现象,有针对性地在新研制的高亮度LED光刻机中采用最佳线宽/焦深选择技术、无缝拼接技术、Mapping垂向控制技术,使PSS的制造良率达到95%以上,极大地降低了PSS制造返工成本。同时,针对芯片细电极曝光需求,采用精密机器视觉对准技术,实现了芯片电极层1μm线宽下200 nm套刻精度。