|
|||||
|
|
| 21世纪的光刻技术 | |
| 引用本文： | 姚汉民.21世纪的光刻技术[J].世界电子元器件,2000(1). |
| 作者姓名： | 姚汉民 |
| 作者单位： | 微细加工光学技术国家重点实验室 主任 |
| 摘 要： | 当前世界半导体工业按照摩尔定律,以快速发展的势头向21世纪,光刻特征线宽越来越小,硅片直径越来越大,制造成本越来越高。到2000年0.18μm工艺、300mm硅片的技术将完全进入规模化大生产阶段。在不远的将来,微电子设备的发展将达到传统光学 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |