| 含氢掺硅类金刚石薄膜的制备及性能表征 |
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| 引用本文： | 胡芳,代明江,林松盛,罗顺,侯惠君,石倩,韦春贝.含氢掺硅类金刚石薄膜的制备及性能表征[J].中国表面工程,2012,25(6):47-52. |
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| 作者姓名： | 胡芳 代明江 林松盛 罗顺 侯惠君 石倩 韦春贝 |
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| 作者单位： | 广州有色金属研究院新材料研究所,广州,510651 |
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| 基金项目： | 广东省国际合作项目（2011B050400007） |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射和离子源复合沉积技术,在Si片、模具钢和硬质合金上制备了均匀致密的含氢掺硅类金刚石薄膜.先用正交法优化含氢类金刚石薄膜的制备工艺,然后通过控制中频碳化硅靶的功率密度向含氢类金刚石膜层中成功掺人Si元素.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、硬度计、划痕仪和摩擦磨损试验机等手段测试和研究了膜层的形貌、成分、sp3和sp2含量及其性能.结果表明:优化后含氢类金刚石薄膜的制备工艺为:30 mL/min甲烷流量,100 V偏压,0.8A离子源电流；所制备的含氢掺硅类金刚石薄膜是非晶结构,膜厚2.20 μm,膜、基结合力为30 N,膜层硬度达到2039 HV.含氢掺硅类金刚石薄膜的摩擦因数受环境湿度变化很小,可应用于精密传动部件提高其使用精度.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 离子源 类金刚石薄膜 非晶 环境湿度 |
Preparation and Characterization of Hydrogen Containing Sidoped DLC Film |
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| HU Fang,DAI Ming-jiang,LIN Song-sheng,LUO Shun,HOU Hui-jun,SHI Qian,WEI Chun-bei.Preparation and Characterization of Hydrogen Containing Sidoped DLC Film[J].China Surface Engineering,2012,25(6):47-52. |
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| Authors: | HU Fang DAI Ming-jiang LIN Song-sheng LUO Shun HOU Hui-jun SHI Qian WEI Chun-bei |
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| Affiliation: | Institute of Surface Engineering, Guangzhou Research Institute of Nonferrous Metals, Guangzhou 510651 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering ion source diamondlike carbon films amorphous ambient humidity |
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