| 离子束溅射沉积Co纳米薄膜表面特征AFM、XPS分析 |
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| 引用本文： | 林晓娉,何丽静,李晓惠,王晓东.离子束溅射沉积Co纳米薄膜表面特征AFM、XPS分析[J].真空科学与技术学报,2007,27(6):504-507. |
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| 作者姓名： | 林晓娉 何丽静 李晓惠 王晓东 |
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| 作者单位： | 1. 河北工业大学材料科学与工程学院,天津,300130
2. 河北工业大学理学院,天津,300130 |
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| 摘 要： | 采用离子束溅射沉积法，在单晶Si基片上制备了不同厚度（1nm-100nm）的Co纳米薄膜。利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co纳米薄膜的表面进行了分析和研究。结果表明：当薄膜厚度为1nm～10nm时，沉积颗粒形态随着薄膜厚度的增加将由二维生长的细长胞状过渡到多个颗粒聚集成的球状；当膜厚继续增加，小颗粒球消失，集结成大颗粒球，颗粒球呈现三维生长状态；表面粗糙度随着膜厚（膜厚为1nm～10nm）的增大，呈现先增加后减小的趋势，在膜厚为3nm时出现极值。通过XPS全程宽扫描和窄扫描，薄膜表面的元素成分为Co：主要以金属Co和Co氧化物的形式存在。
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| 关 键 词： | 离子束沉积 纳米薄膜 粗糙度 X射线光电子能谱 |
| 文章编号： | 1672-7126（2007）06-504-04 |
| 收稿时间： | 2006-08-21 |
| 修稿时间： | 2006年8月21日 |
Microstructures and Stoichiometries of Magnetron Sputtered Co Films |
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| Lin Xiaoping,He Lijing,Li Xiaohui,Wang Xiaodong.Microstructures and Stoichiometries of Magnetron Sputtered Co Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2007,27(6):504-507. |
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| Authors: | Lin Xiaoping He Lijing Li Xiaohui Wang Xiaodong |
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