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金刚石薄膜异质外延的研究进展
引用本文:王传新,汪建华,满卫东,马志斌,王生高,康志成.金刚石薄膜异质外延的研究进展[J].真空与低温,2002,8(2):71-76.
作者姓名:王传新  汪建华  满卫东  马志斌  王生高  康志成
作者单位:1. 中国科学院,等离子体物理研究所,安徽,合肥,230031;武汉化工学院,材料科学与工程系,湖北,武汉,430073
2. 武汉化工学院,材料科学与工程系,湖北,武汉,430073
3. 中国科学院,等离子体物理研究所,安徽,合肥,230031
摘    要:主要介绍金刚石薄膜在Si上异质外延的研究状况。综述了外延金刚石薄膜的偏压形核 ,SiC过渡层的影响及一些实验参数对外延薄膜质量的影响等 ,并论述了发展方向

关 键 词:金刚石薄膜  异质外延  CVD
文章编号:1006-7086(2002)02-0071-06
修稿时间:2001年12月21

DEVELOPMENT OF RESEARCHES ON HETEROEPITAXY DIAMOND FILMS
WANG Chuan-xin ?,WANG Jian-hua ,MAN Wei-dong ,MA Zhi-bin ,WANG Sheng-gao ?,KANG Zhi-cheng.DEVELOPMENT OF RESEARCHES ON HETEROEPITAXY DIAMOND FILMS[J].Vacuum and Cryogenics,2002,8(2):71-76.
Authors:WANG Chuan-xin ?  WANG Jian-hua  MAN Wei-dong  MA Zhi-bin  WANG Sheng-gao ?  KANG Zhi-cheng
Affiliation:WANG Chuan-xin 1?2,WANG Jian-hua 2,MAN Wei-dong 2,MA Zhi-bin 2,WANG Sheng-gao 1?2,KANG Zhi-cheng 1
Abstract:The status in the researches on synthesizing heteroepitaxial diamond thin films on silicon is introduced. Bias enhanced nucleation,action of SiC in film deposition and effect of different parameters on qualities of heteroepitaxial are summarized.Some problems that worth further researches in this field are presented.
Keywords:diamond thin films  heteroepitaxy  CVD
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