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SiGe HBT及高速电路的发展
引用本文:姚飞,成步文,王启明.SiGe HBT及高速电路的发展[J].微纳电子技术,2003,40(10):5-14.
作者姓名:姚飞  成步文  王启明
作者单位:中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室,北京,100083
摘    要:详细讨论了SiGeHBT的直流交流特性、噪声特性,SiGeHBT的结构、制作工艺、与工艺相关的寄生效应、SOI衬底上的SiGeHBT等,以及它在高速电路中的应用,包括低噪声放大器(LNA)、功率放大器(PA),电压控制振荡器(VCO)以及涉及到的无源器件等。

关 键 词:SiGe  异质结双极晶体管  射频  低噪声放大器  功率放大器
文章编号:1671-4776(2003)10-0005-10
修稿时间:2003年5月10日

The development of SiGe HBT and the application in RF circuits
YAO Fei,CHENG Bu-wen,WANG Qi-ming.The development of SiGe HBT and the application in RF circuits[J].Micronanoelectronic Technology,2003,40(10):5-14.
Authors:YAO Fei  CHENG Bu-wen  WANG Qi-ming
Abstract:The combination of SiGe HBTs with advanced Si CMOS to form an SiGe BiCMOS technology represents a unique opportunity for Si-based RF system-on-chip solutions.SiGe HBT technology is reviewed and its application for RF systems is also discussed.
Keywords:SiGe  HBT  RF  LNA  PA  
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