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分步重复自动对准光刻工艺技术研究
引用本文:蔡颖岚,张勇,杜合杰,李仁豪.分步重复自动对准光刻工艺技术研究[J].半导体光电,2007,28(1):87-89,138.
作者姓名:蔡颖岚  张勇  杜合杰  李仁豪
作者单位:重庆光电技术研究所,重庆,400060
摘    要:介绍了投影光刻机的分步重复自动对准光刻系统,分析了其工作原理;从对准标记的设计、工艺与对准的关系两方面进行了论述,阐述了采用这类自动对准系统的光刻机可能遇到的工艺问题,并提出了相应的解决措施.

关 键 词:光刻机  自动对准  基准标记  自动  光刻工艺  技术研究  Alignment  System  Automatic  解决措施  工艺问题  投影光刻机  对准系统  阐述  关系  设计  对准标记  工作原理  分析  光刻系统
文章编号:1001-5868(2007)01-0087-03
修稿时间:2006-07-04

Research on Automatic Alignment System for Stepper
CAI Ying-lan,ZHANG Yong,DU He-jie,LI Ren-hao.Research on Automatic Alignment System for Stepper[J].Semiconductor Optoelectronics,2007,28(1):87-89,138.
Authors:CAI Ying-lan  ZHANG Yong  DU He-jie  LI Ren-hao
Affiliation:Chongqing Optoelectronics Research Institute,Chongqing 400060 ,CHN
Abstract:The step automatic alignment system for projection photoetching machines is introduced,and its working principles are analyzed.The design of fiducial mark and its influence on craftwork are discussed.Some measures are presented to solve the familiar problems from the system.
Keywords:photoetching machines  automatic alignment  fiducial
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