| Notching效应在MEMS风速仪制造工艺中的应用 |
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| 引用本文： | 常洪龙,周平伟,谢建兵,杨勇,谢中建,袁广民.Notching效应在MEMS风速仪制造工艺中的应用[J].传感技术学报,2013,26(2):191-194. |
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| 作者姓名： | 常洪龙 周平伟 谢建兵 杨勇 谢中建 袁广民 |
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| 作者单位： | 西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072;西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072;西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072;西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072;西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072;西北工业大学空天微纳系统教育部重点实验室,西安,710072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(61273052);安全技术交通行业重点实验室开放课题项目 |
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| 摘 要： | 深反应离子刻蚀(DRIE)工艺在目前的硅微机械高深宽比结构加工中应用十分广泛。在SOI硅片DRIE刻蚀过程中,存在着一些被认为对刻蚀速率和结构轮廓不利的效应,如横向刻蚀(Notching)效应。通过在结构旁布置牺牲结构-硅岛,利用Notching效应加工出以悬空硅作为敏感单元的风速仪,其响应时间常数和电阻温度系数TCR(Temperature Coefficient of Resistant)分别为1.08μs和4 738×10-6/℃。正如所描述的,对于特定的微机械应用,Notching效应可以转变为一种加工优势,提高了微加工过程中的变化性。
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| 关 键 词： | MEMS风速仪 悬空硅 横向刻蚀效应 深反应离子刻蚀 |
Application of Notching Effect in The Fabrication Process of MEMS Anemometer |
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| CHANG Honglong,ZHOU Pingwei,XIE Jianbing,YANG Yong,XIE Zhongjian,YUAN Guangmin.Application of Notching Effect in The Fabrication Process of MEMS Anemometer[J].Journal of Transduction Technology,2013,26(2):191-194. |
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| Authors: | CHANG Honglong ZHOU Pingwei XIE Jianbing YANG Yong XIE Zhongjian YUAN Guangmin |
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| Affiliation: | (Key Laboratory of Micro/Nano Systems for Aerospace,Ministry of Education,Northwestern Polytechnical University,Xi ’ an 710072,China) |
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