| C/W多层膜的制备及其光学特性 |
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| 引用本文： | 王风丽,王占山,王洪昌,吴文娟,张众,张淑敏,秦树基,陈玲燕.C/W多层膜的制备及其光学特性[J].真空科学与技术学报,2005,25(5):385-387. |
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| 作者姓名： | 王风丽 王占山 王洪昌 吴文娟 张众 张淑敏 秦树基 陈玲燕 |
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| 作者单位： | 同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092 |
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| 摘 要： | 介绍了软X射线波段C/W多层膜的制备和光学性能检测.采用高真空直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制作了C/W多层膜,用X射线衍射(XRD)仪,小角测量方法测试多层膜的光学性能,采用透射电镜(TEM)观测多层膜断层样品的微观结构,并在同步辐射软X射线光束线上,测试了所制备的C/W多层膜样品的反射率,然后对测试结果进行拟合分析.结果表明,所制备的C/W多层膜样品的质量较高,界面清晰,粗糙度小,所有膜层均为无定形态,没有晶相生成,以44.2°入射在5.9 nm处有约6%的反射率.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 多层膜 X射线衍射仪 透射电镜 同步辐射 |
| 文章编号： | 1672-7126（2005）05-0385-03 |
| 收稿时间： | 2005-01-07 |
| 修稿时间： | 2005年1月7日 |
C/W Multilayer Growth and Its Optical Properties |
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| Wang Fengli,Wang Zhanshan,Wang Hongchang,Wu Wenjuan,Zhang Zhong,Zhang Shumin,Qin Shuji,Chen Lingyan.C/W Multilayer Growth and Its Optical Properties[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(5):385-387. |
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| Authors: | Wang Fengli Wang Zhanshan Wang Hongchang Wu Wenjuan Zhang Zhong Zhang Shumin Qin Shuji Chen Lingyan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Magnetron sputtering Multilayer film X-ray diffractometer Transmission electron microscope Synchrotron radiation |
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