| 直流热阴极CVD法中硼酸三甲酯流量对掺硼金刚石膜制备的影响 |
| |
| 引用本文： | 祁文涛,彭鸿雁,陈玉强,姜宏伟,王明磊,尹龙承.直流热阴极CVD法中硼酸三甲酯流量对掺硼金刚石膜制备的影响[J].材料导报,2010,24(Z2). |
| |
| 作者姓名： | 祁文涛 彭鸿雁 陈玉强 姜宏伟 王明磊 尹龙承 |
| |
| 基金项目： | 城市水资源与水环境国家重点实验室开放基金资助课题，黑龙江省科技攻关项目，牡丹江市科技攻关项目，黑龙江省自然科学基金，黑龙江省教育厅项目 |
| |
| 摘 要： | 采用直流热阴极CVD方法,以液态硼酸三甲酯为硼源,在P型(100)硅基片上制备了掺硼金刚石(BDD)膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)等方法对样品进行了表征,研究了其生长特性,并利用电榆运特性测试系统对其电阻率进行了测试.结果表明,随着硼酸三甲酯流量的增加,晶体的表面逐渐光滑平整、棱角清晰;掺硼金刚石膜的品质呈先上升后下降的趋势;电阻率呈先下降后达到平稳的趋势,最终达到约8.0×10-3Ω·cm.硼掺杂明显改变了金刚石晶体的组成结构.
|
| 关 键 词： | 掺硼金刚石膜 CVD 直流热阴极 |
Deposition of Boron Doped Diamond Films Using DC Hot Cathode CVD |
| |
| QI Wentao,PENG Hongyan,CHEN Yuqiang,JIANG Hongwei,WANG Minglei,YIN Longcheng.Deposition of Boron Doped Diamond Films Using DC Hot Cathode CVD[J].Materials Review,2010,24(Z2). |
| |
| Authors: | QI Wentao PENG Hongyan CHEN Yuqiang JIANG Hongwei WANG Minglei YIN Longcheng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
