振镜扫描系统的特性研究

通过实际测试，求出振镜扫描的幅值与频率和幅值与电流的关系曲线。综合分析了振镜扫描的特性，为振镜扫描器的研制和应用提供依据。     

ETR Ⅱ-30调速器液压控制系统

ETRⅠ-30调速器是瑞士爱舍维斯工厂生产的具有PID调节规律的电液调速器。本文对其液压控制系统作了较详细的介绍,供有关人员参考。     

引黄入晋工程隧洞水力计算

输水隧洞是引黄入晋工程引水线路的主体。对各段有压及无压隧洞的过流能力、水头损失等水力参数需进行全面分析，以获得良好的水流形态。     

槽孔式水力驱动控制棒槽孔阻力系数实验研究

对槽孔式水力驱动控制棒槽对孔阻力系数进行了大量实验研究，获得了槽孔式水力驱动控制棒槽对孔阻力系数和其随槽对孔位移的变化规律，分析了槽对孔阻力系数与控制棒槽对孔结构参数之间的关系。结果表明：随槽对孔位移的增加，槽对孔阻力系数从某一较大的定值迅速降低到某一较小的定值，然后再迅速反回到初始的定值，形成一个对称的宽幅波谷；槽高使阻力系数曲线波谷幅宽发生变化，也使完全不重合段的阻力系数发生变化；随内套孔径的增大，阻力系数有所降低，其对阻力系数的影响也进一步减弱。孔径增大到一定程度，阻力系数基本不受孔径参数的影响。     

纳米技术与找矿(一)

纳米技术是20世纪80年代付诸于现实的新兴技术,也是21世纪最重要的科技前沿之一。钱学森院士曾预言,纳米技术将会在21世纪引发一场新的产业革命。但实际上,纳米物质并不神秘,正如“科学美国人”1996年12月刊登的理查德S的文章中所指出的,自然作用和人类都在不断地制造纳米物质,只不过人们长期对其“熟视无睹”而已。当原始人类发现火的时候,他们就已创造了纳米相烟粒。铂和钯的纳米颗粒早就被用作催化剂。纳米技术的研究与应用势在必行！本文将就纳米的有关概念、纳米材料的主要特性、纳米技术的发展历史、纳米技术的应用领域、纳米技术在铀矿地质和找矿方法技术方面的应用以及纳米技术应用展望,分3次进行比较全面而又扼要的介绍,目的是使铀矿地质界对这一21世纪崭新的科技前沿,也能予以认真的关注和足够的重视,并能在科研工作中占有一席之地。     

碘标记表皮生长因子的代谢特性

用^125I、^131I标记表皮生长因子（EGF），并采用Sephadex G25柱对标记物进行纯化，标记率达75.4%，放化纯度达95.2%，用昆明种小鼠作^125I-EGF体内分布实验及药代动力学试验；用新西兰大白兔做^131I-EGF体外显像研究。结果显示，小鼠体内注入^125I-EGF后1h，肾肝组织中的药物浓度很快下降；肺组织摄取一定量的^125I-EGF且保留时间长达3h；脾脏的放射性在15min达到高峰后开始缓慢下降；脑组织放射性明显低于血本底。^125I-EGF的体内分布、代谢消除过程等工代动力学符合二室模型，分布半衰期T1／2α为0.3min，消除半衰期T1／2β为80.8min。新西兰大白兔体外^131I-EGF显像清晰，碘标记EGF的体内、外稳定性较好。     

Sensitizing Mechanism and Adsorption Properties of Dye—Sensitized TiO2 Thin Films

The dye-sensitized TiO2 complex films were prepared by the dye coat onto TiO2 surfaces,and the sensitizing mechanism and adsorption properties of the dye-sensitized TiO2 complex films were inverstigated.The influence of the application conditions of dye adsorbed on TiO2 films on the amount of dye adsorption was discussed.Experimental results show that the concentration,the temperature of dye solutions and the dipping time of TiO2 films in the dye solutions have a significant influence on the amount of dye adsorption.Cell test indicates that the conversion efficiency of light to electricity increases with the amount of dye adsorption.     

改善天线旁瓣的副面再次赋形设计

本文介绍了在不改变主反射面轮廓前提下，通过移动馈源相位中心，并适当发迹主副反射面边缘的照射锥削，再次将副反射面赋形的设计原理及方法。